[发明专利]一种清洁半导体集成块测试插座的清洁膜和清洁方法无效
申请号: | 98102825.X | 申请日: | 1998-07-08 |
公开(公告)号: | CN1241624A | 公开(公告)日: | 2000-01-19 |
发明(设计)人: | 孙占华;王振国;葛丙贺 | 申请(专利权)人: | 王振国;孙占华;葛丙贺 |
主分类号: | C11D17/04 | 分类号: | C11D17/04 |
代理公司: | 北京万科园专利事务所 | 代理人: | 张亚军,曹诗健 |
地址: | 100036 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洁 半导体 集成块 测试 插座 方法 | ||
1.一种有效的清洁半导体集成块测试插座的清洁膜,其包括:
(1)基膜,该基膜是双向拉伸增强的聚酯薄膜,其厚度是75-500微米,和
(2)涂层部分,其包含涂料用树脂胶、溶剂、固化剂和研磨剂,其中树脂胶与溶剂的重量比例是1∶1-1∶5,树脂胶与固化剂的重量比例是19∶1-3∶2,树脂胶与研磨剂的重量比例是1∶9-2∶3,所说涂层的厚度是10-80微米。
2.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的涂料用树脂胶包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚丙烯酰胺、聚氨基甲酸酯、环氧树脂,或上述任意两种聚合物的共混物。
3.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的溶剂包括丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、苯、甲苯、二甲苯、二氯甲烷、二氯乙烷、正己烷等。
4.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的固化剂(交联剂)是4,4-二苯基二异氰酸甲酯。
5.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的研磨剂包括白刚玉(氧化铝)微粉、碳化硅微粉、氧化铬微粉、金刚石微粉等。
6.根据权利要求1的清洁膜,树脂胶与溶剂的重量比例是1∶3。
7.根据权利要求1的清洁膜,树脂胶与固化剂的重量比例是10∶1-2∶1。
8.一种清洁半导体集成块测试插座的方法,将权利要求1的清洁膜剪裁成适合的尺寸,放入插座底部,清洁膜有研磨剂的一面向上,然后放松上缘,插脚随即伸出侧面与清洁膜的表面接触摩擦,按下、放松,反复4-5次,使得插脚端部的异物被磨掉并且转移至清洁膜的表面上,从而使测试插座得到清洁处理。
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