[发明专利]一种清洁半导体集成块测试插座的清洁膜和清洁方法无效

专利信息
申请号: 98102825.X 申请日: 1998-07-08
公开(公告)号: CN1241624A 公开(公告)日: 2000-01-19
发明(设计)人: 孙占华;王振国;葛丙贺 申请(专利权)人: 王振国;孙占华;葛丙贺
主分类号: C11D17/04 分类号: C11D17/04
代理公司: 北京万科园专利事务所 代理人: 张亚军,曹诗健
地址: 100036 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 半导体 集成块 测试 插座 方法
【权利要求书】:

1.一种有效的清洁半导体集成块测试插座的清洁膜,其包括:

(1)基膜,该基膜是双向拉伸增强的聚酯薄膜,其厚度是75-500微米,和

(2)涂层部分,其包含涂料用树脂胶、溶剂、固化剂和研磨剂,其中树脂胶与溶剂的重量比例是1∶1-1∶5,树脂胶与固化剂的重量比例是19∶1-3∶2,树脂胶与研磨剂的重量比例是1∶9-2∶3,所说涂层的厚度是10-80微米。

2.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的涂料用树脂胶包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚丙烯酰胺、聚氨基甲酸酯、环氧树脂,或上述任意两种聚合物的共混物。

3.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的溶剂包括丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、苯、甲苯、二甲苯、二氯甲烷、二氯乙烷、正己烷等。

4.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的固化剂(交联剂)是4,4-二苯基二异氰酸甲酯。

5.根据权利要求1的清洁膜,其中所说的研磨剂包括白刚玉(氧化铝)微粉、碳化硅微粉、氧化铬微粉、金刚石微粉等。

6.根据权利要求1的清洁膜,树脂胶与溶剂的重量比例是1∶3。

7.根据权利要求1的清洁膜,树脂胶与固化剂的重量比例是10∶1-2∶1。

8.一种清洁半导体集成块测试插座的方法,将权利要求1的清洁膜剪裁成适合的尺寸,放入插座底部,清洁膜有研磨剂的一面向上,然后放松上缘,插脚随即伸出侧面与清洁膜的表面接触摩擦,按下、放松,反复4-5次,使得插脚端部的异物被磨掉并且转移至清洁膜的表面上,从而使测试插座得到清洁处理。

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