[发明专利]高介电常数介电陶瓷组合物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 98105146.4 申请日: 1998-02-24
公开(公告)号: CN1195867A 公开(公告)日: 1998-10-14
发明(设计)人: 佐藤正美;田中均 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01B3/12 分类号: H01B3/12;H01G4/12;C04B35/468
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 龙传红
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 介电常数 陶瓷 组合 及其 制备 方法
【说明书】:

发明总体涉及一种高介电常数的介电陶瓷组合物及其制备方法,更具体地说,涉及一种适合于多层陶瓷电容器、并在较宽的温度范围内(-55℃-+150℃)具有很小的电容变化和介电损耗的高介电常数的介电陶瓷组合物及其制备方法。

现在使用的电容器大多数是通过热压粘结和共烧结包括相互交替放置的起始介电板和电极的堆垛而获得的多层电容器。这些电容器与常规的简单板型电容器相比阿贝特(albeit)尺寸减小,但获得了更大的电容。为了达到尺寸减小而电容增大的目的,必须要求使用高介电常数材料并使介电层变薄。

至今,包括钛酸钡(BaTiO3)、铋化合物、如Bi2O3·2SnO2或Bi2O3·2ZrO2、和Ta2O5、Sm2O3、Nb2O5或所加入的其他物质等的介电陶瓷组合物已经被用作具有高介电常数并表现出介电常数随温度的变化率减少的组合物。

当包括这些成分的介电陶瓷组合物具有增加了的介电常数时,然而它们却不能实际应用,因为电容随温度的变化率也增加。对于这些组合物,难以获得尺寸较小而电容较大的多层陶瓷电容器。即使偶尔用该组合物获得一种电容器,其仍很难符合EIAJ(the Standards ofElectronic Industries Association of Japan)规定的X7R标准(在-55℃-+125℃的温度范围内电容变化率在25℃时的参考值的15%之内),并具有很大的介电损耗(tanδ)。所以,前述介电陶瓷组合物不适合于制备多层陶瓷电容器。

在介电陶瓷组合物中掺入铋化合物所带来的问题是铋成分在烧结中挥发,导致陶瓷组合物材料弯曲或在其中产生针孔。这使得难于获得密实的陶瓷组合物。

当多层电容器由含有铋化合物的钛酸钡构成时,形成内部电极的钯或银钯合金与为介电材料一种组分的铋反应,并使内部电极丧失其功能。出于该原因,必须将不易于与铋反应的昂贵贵金属、如铂和铂-钯合金用于内部电极。这是导致多层陶瓷电容器成本上升的一个原因。

为了提供一种解决上述问题的方案,已公开了一种无铋化合物并具有高介电常数的介电陶瓷组合物。发现这些化合物中的一些与含铋化合物的组合物相比电容随温度的变化率较小。

例如,JP-A’s4-292458、4-292459、和4-295048公开了高介电常数介电陶瓷组合物,它们含有主要成分:94.0-99.0mol%BaTiO3、0.5-3.0mol%Nb2O5、0.5-3.0mol%CoO,和辅助添加剂:0.2-7.0%(重量)的BaTiO3、SrZrO3和BaZrO3中的至少一种物质。然而,这些组合物无法满足由EIAJ(the Standards of Electronic Industries Associationof Japan)规定的X8R标准(在-55℃-+125℃的温度范围内电容变化率在25℃时的参考值的15%之内)。尽管一些组合物由于某些原因可满足该标准,但它们仍然不适合多层陶瓷电容器,因为它们的介电损耗较大(tanδ)。在形成多层陶瓷电容器时,它们仅在1280-1320℃的很窄的温度范围内满足X8R标准,因为它们电容随温度的变化率大大取决于烧结温度。

JP-A 5-109319公开了一种高介电常数介电陶瓷组合物,其含有主要成分:94.0-99.0mol%BaTiO3、0.5-3.0mol%Ta2O5、0.5-3.0mol%ZnO,和辅助添加剂:0.2-7.0%(重量)的CaZrO3。然而,这些组合物绝缘性能降低并且相对介电常数也较低。另外,它们无法满足EIAJ规定的X8R标准。该组合物中的一些可能满足该标准,但它们仍然不适用于制备多层陶瓷电容器,因为其介电损耗(tanδ)大到无法接受。还有,它们必须在高温下烧结以形成多层陶瓷电容器,而其烧结性也较差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98105146.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top