[发明专利]基板加工装置和方法无效
申请号: | 98105533.8 | 申请日: | 1998-03-12 |
公开(公告)号: | CN1198586A | 公开(公告)日: | 1998-11-11 |
发明(设计)人: | 泷泽亨;米原隆夫;山方宪二 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张金熹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 加工 装置 方法 | ||
1.一种用迭合和接触两块基板的基板加工装置,其特征在于包括:
基板操作装置,用于支承上述两块基板使之相互面对,然后取消对一块基板的支承;
加压装置,用于与由上述基板操作装置取消对一块基板的支承相对应,对一块基板的背面部分加压,使一块基板迭合在另一块基板上。
2.权利要求1的装置,其特征在于上述加压装置对一块基板部分加压是在由上述基板操作装置取消对一块基板的支承的同时进行的。
3.权利要求1的装置,其特征在于上述加压装置在上述两块基板之间的气体排放到不少于某一预定量之前,在由上述基板操作装置对一块基板的支承取消以后对一块基板部分加压。
4.权利要求1的装置,其特征在于上述加压装置在由上述基板操作装置对一块基板的支承取消以后一段预定的间隔时间时对一块基板部分加压。
5.权利要求1的装置,其特征在于上述加压装置在上述两块基板之间的距离减小到不少于某一预定距离之前,在由上述基板操作装置取消对一块基板的支承之后对一块基板部分加压。
6.权利要求1~5中任何一个装置,其特征在于:上述基板操作装置基本水平地支承上述两块基板,然后取消对上述上基板的支承。
7.权利要求1的装置,其特征在于:上述基板操作装置基本水平地支承上述两块基板,然后取消对上述上基板的支承,上述加压装置在上述两块基板之间的气体由于上述上基板的重力排放到不少于预定量之前,在由上述基板操作装置对上述上基板的支承取消之后对上述上基板部分加压。
8.权利要求1~7中任何一个的装置,其特征在于:上述基板操作装置仅分别从其背面支承上述两块基板。
9.权利要求1~8中任何一个的装置,其特征在于:上述基板操作装置包括间隙调节装置,用于在正好取消对一块基板的支承之前调节上述两块基板之间的间隙。
10.权利要求9的装置,其特征在于上述间隙调节装置将上述两块基板之间的间隙调节到某一预定的距离。
11.权利要求9或10的装置,其特征在于上述间隙调节装置包括测量上述两块基板厚度的测量装置,并根据测量结果调节上述两块基板之间的间隙。
12.权利要求1~11的任何一个装置,其特征在于上述加压装置包括一压力传送构件和振动装置,压力传送构件用于与上述基板部分接触对上述基板加压,振动装置用于振动上述压力传送构件。
13.权利要求12的装置,其特征在于上述振动装置在对上述基板加压时振动上述压力传送构件。
14.权利要求1~13中任何一个的装置,其特征在于上述基板操作装置包括用于支承上述面朝上基板的背侧的第一基板支承装置,和用于从背面卡紧另一块基板的第二基板支承装置,在使上述基板的正面面朝基本平行的一块基板正面的同时,支承上述基板。
15.权利要求14的装置,其特征在于:上述第二支承装置包括用于从背侧卡紧另一块基板的卡紧构件,在另一基板由上述卡紧构件卡紧以后,使上述卡紧构件绕位于上述卡紧构件和上述第一基板支承装置之间靠近中间部分的轴转动约180°,使卡紧的基板转动,使另一块基板面朝由上述第一基板支承装置支承的一块基板。
16.权利要求1~15中任何一个的装置,其特征在于还包括由上述基板操作装置将上述基板传送到接收位置的基板传送装置。
17.权利要求16的装置,其特征在于还包括用于调节由上述基板操作装置支承的上述基板的中心位置和方向的基板调节装置。
18.权利要求17的装置,其特征在于上述基板调节装置调节由上述基板传送装置保持的上述基板的中心位置和方向,然后上述基板传送装置将具有调节好中心位置和方向的上述基板传送到接收位置。
19.一种迭合和接触两块基板的基板加工方法,其特征在于包括:
支承上述两块基板使之相互面对,然后取消对一块基板的支承,与取消相对应对一块基板的背面部分加压,将一块基板迭合在另一块基板上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98105533.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造