[发明专利]光记录介质及光盘设备无效

专利信息
申请号: 98105878.7 申请日: 1998-03-25
公开(公告)号: CN1194436A 公开(公告)日: 1998-09-30
发明(设计)人: 柏木俊行;川久保伸;中沖有克;金子正彦 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 光盘 设备
【权利要求书】:

1.一种光记录介质包含:

一基层,该基层具有形成在激光入射侧面的一表面上的一信息信号部分;并且

形成在所述基层上的一光透过层,其中所述光透过层的厚度t至少在上述信息信号部分的一区域中在t=3到177μm的范围之内,并且如果上述光透过层的不均匀性是Δt,那么用于再生或记录和再生的光学系统的N.A.和波长λ满足

Δt≤±5.26(λ/N.A.4)(μm)(其中N.A.是一数值孔径)。

2.根据权利要求1的光记录介质,其中如果光迹间距为P并且倾斜为θ,那么满足P≤0.64μm以及θ≤±84.115°(λ/N.A.3/t)。

3.根据权利要求1的光记录介质,其中上述光记录介质通过使一个满足λ≤0.68μm和N.A./λ≥1.20记录和再生系统的被记录和再生。

4.根据权利要求1的光记录介质,其中其外部直径为127mm或更小且其厚度为1.60mm或更小。

5.根据权利要求1的光记录介质,其中一线性密度被设置使得记录容量达到8GB或更大。

6.根据权利要求1的光记录介质,其中如果所述光透过层的折射率为N,那么一凹槽或一信息凹坑的深度在(λ/8)/N到(3λ/8)/N的范围之内。

7.根据权利要求1的光记录介质,其中光迹间距不均匀性设置为ΔP≤±0.04 P(μm),偏心率设置为E≤67.57(μm),并且倾斜设置为0.4°或更小。

8.根据权利要求1的光记录介质,其中被记录和再生光照射的表面的表面粗糙度Ra在光点大小的范围内被设置为±3λ/100或者更小。

9.根据权利要求1的光记录介质,进一步包含:

一个由热塑性树脂构成并且具有0.3到1.2mm的厚度的基板;并且

通过转移在所述基板上形成的一波导凹槽,其中一个多层薄膜形成在所述波导凹槽上或者通过旋转涂层在其上形成有机色素,并且至少一种紫外线硬树脂涂在其上使得具有3到177μm的厚度。

10.根据权利要求1的光记录介质,进一步包含:

一个由热塑性树脂构成并且具有0.3到1.2mm的厚度的基板;并且

通过转移在所述基板上形成的一导向凹槽,其中一个多层薄膜形成在所述导向凹槽上或者通过旋转涂层在其上形成有机色素,通过将至少一种紫外线硬树脂涂于其上,作为一光透过层的光透过薄膜被粘结到其上,并且整个厚度在3到177μm的范围之内。

11.根据权利要求1的光记录介质,其中所述光透过层的形成是通过把用压模注入成型或者浇铸制造的板料加热到较高的温度从而将信号或导向凹槽转移到所述板料形成的。

12.根据权利要求11的光记录介质,其中具有0.6到1.2mm厚度的基板被 粘结到所述的转移板料。

13.根据权利要求12的一光记录介质,其中所述基板是一透明平板。

14.根据权利要求12的一光记录介质,其中所述基板使用紫外线硬树脂粘结。

15.根据权利要求13的一光记录介质,其中所述紫外线硬树脂通过旋转被涂上。

16.根据权利要求1的光记录介质,具有一个双侧面结构通过在两侧面同时浇铸或粘结。

17.根据权利要求1的光记录介质,具有一个多层结构,其中的多个信息记录薄膜或反射薄膜及光透过层被层压(1aminated)。

18.根据权利要求1 7的一光记录介质,其中所述多个反射薄膜的反射率在指向光入射侧面的方向上被减小。

19.根据权利要求1的光记录介质,其中紫外线硬树脂涂在与所述光透过层相对的侧面上。

20.根据权利要求19的一光记录介质,其中涂在与所述光透过层相对的侧面上的紫外线硬树脂与形成所述光透过层的材料相比在凝固之后具有高收缩率。

21.根据权利要求1的光记录介质,其中用于改善表面硬度和具有抗静电特性的硬涂层形成在所述光透过层的表面。

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