[发明专利]使用电子束的图形曝光方法无效

专利信息
申请号: 98106176.1 申请日: 1998-03-31
公开(公告)号: CN1091887C 公开(公告)日: 2002-10-02
发明(设计)人: 中岛谦 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 使用 电子束 图形 曝光 方法
【权利要求书】:

1 一种用电子束对预先形成的基底图形重叠曝光的图形曝光方法,其特征在于包括如下步骤:

1)将一组形成于所述基底图形上的图形分割为反向散射直径大小的区域;

2)计算每个所述分割区域的所述基底图形的区域密度;

3)根据该区域密度产生一个矩形图形,并置于所述区域的中央;

4)用所述图形进行辅助曝光,所述分割区域的方向散射所积累的能量相等;和

5)进行主曝光以曝光一所要的图形。

2 根据权利要求1的图形曝光方法,其特征在于:

在计算每个所述分割区域的所述基底图形的区域密度的步骤2)中,每个所述基底图形的区域密度被计算以制成一区域密度图样。

3 根据权利要求1的图形曝光方法,其特征在于:

在根据所述区域密度产生一个图形的步骤3)中,对每个所述分割区域,将所述区域密度的矩形图形置于每个所述分割区域的中央,以制成一组用于辅助曝光的图形。

4 根据权利要求1的图形曝光方法,其特征在于:

在根据所述区域密度产生一个图形的步骤3)中,对每个所述分割区域,有任意的相同尺寸的矩形图形位于每个所述分割区域的中央,以构成一组辅助曝光的图形。

5 根据权利要求1的图形曝光方法,其特征在于:

在进行主曝光以曝光一所要的图形的步骤5)中,根据基底结构和辅助曝光的曝光量减少曝光量来进行主曝光。

6 根据权利要求3的图形曝光方法,其特征在于:

置于所述用于辅助曝光的图形组中的所述矩形图形用相同曝光量进行曝光,曝光量取决于膜的种类,以形成所述基底图形。

7 根据权利要求4的图形曝光方法,其特征在于:

对置于所述用于辅助曝光的图形组中的所述矩形图形曝光,其最佳曝光量取决于每个所述分割区域的区域密度。

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