[发明专利]光线准直的等离子体显示装置及光线准直部分的制造方法

权利要求书

1.一种等离子体显示装置，其特征在于包含：

第一和第二基片；

第一和第二电极，所述第一和第二电极分别形成在所述第一和第二基片的

相对的表面上，方向相互交叉；

第一和第二介质层，所述第一和第二介质层分别形成在所述第一和第二基层上的所述第一和第二电极上方；

多个间隔件，所述间隔件淀积在所述第二介质层上，形成多个小室，在每个所述小室中充有惰性气体；

荧光物质，把所述荧光物质涂覆在所述多个间隔件之间的所述第二介质层上；及

多个光线准直部分，用于使来自所述荧光物质的光线在穿过所述第一基片时准直为平行光束。

2.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其特征在于所述光线准直部分是通过将所述第一介质层的表面的一部分弯曲到预定的曲率而形成的。

3.如权利要求2所述的等离子体显示装置，其特征在于所述光线准直部分在多个所述小室中沿平行于所述间隔件的纵长方向延伸。

4.如权利要求2所述的等离子体显示装置，其特征在于所述光准直部分在所述多个小室中沿垂直于所述间隔件的纵长方向延伸，从而它们被安排在所述第一电极之间。

5.如权利要求4所述的等离子体显示装置，其特征在于形成的所述间隔件带有凹槽，用于容纳所述光线准直部分。

6.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其特征在于通过相应于所述第一电极之间的区域模压所述第一介质层的表面形成多个所述光线准直部分。

7.一种用于制造等离子体显示装置的光线准直部分的方法，其特征在于包括以下的步骤：

通过在基片上安排预定图案的掩模，并在其上涂覆和干燥介质膏而形成预定图案的介质膏层，其中在所述基片上已经形成有第一电极；

在所述基片的整个的表面上涂覆和干燥介质膏，其中所述基片具有所述预定图案的介质膏层；及

燃烧和干燥所述介质膏层，从而所述介质膏层的表面可以流动。

8.如权利要求7所述的制造等离子体显示装置的光线准直部分的方法，其特征在于，在形成预定图案的介质膏的所述步骤中，重复涂覆和干燥介质膏，直到所述介质膏层具有预定的厚度。

9.如权利要求8所述的制造等离子体显示装置的光线准直部分的方法，其特征在于对应于已完工的等离子显示装置中的多个小室上的区域形成所述预定图案的介质膏层的部分。

10.一种制造等离子体显示装置的光线准直部分的方法，其特征在于包括以下步骤：

在基片的表面上形成均匀厚度的介质膏层，并在其上安排预定图案的抗研磨掩模，其中在所述基片上已形成第一电极；

将研磨剂微粒注在所述介质膏层的表面上，从而减小未被所述抗研磨掩模挡住的介质膏层部分的厚度；及

燃烧所述介质膏层，从而所述介质膏层的表面可以流动。

11.如权利要求10所述的制造等离子体显示装置的光线准直部分的方法，其特征在于未被所述抗研磨掩模挡住的部分相应于已完工的等离子体显示装置中多个小室上方的区域。