[发明专利]陶瓷成形体的干燥方法及其装置无效
申请号: | 98108063.4 | 申请日: | 1998-03-28 |
公开(公告)号: | CN1198419A | 公开(公告)日: | 1998-11-11 |
发明(设计)人: | 佐藤立 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | C04B35/00 | 分类号: | C04B35/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨松龄 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷 成形 干燥 方法 及其 装置 | ||
本发明涉及一种具有较为凹凸的第1表面和凹凸程度比第1表面小的第2表面的陶瓷成形体,例如在悬垂瓷管和绝缘瓷瓶的制造阶段所得到的陶瓷成形体的干燥方法及装置。
为了迅速地干燥像平板这样简单形状的陶瓷成形体,过去一直采用红外线加热器。但是在干燥像那种悬垂绝缘瓶或瓷管的陶瓷成形体,即其一侧有又厚又大的凹凸体的复杂表面,而另一侧是比上述复杂表面凹凸程度较小的简单表面的陶瓷成形体的情况下,红外线加热器就不适用。其理由是:陶瓷成形体的的复杂表面侧因每单位体积的表面积较大而易于接受来自红外线加热器的放射热,而简单表面侧的每单位体积的表面积较小而难于接收到放射热,其结果导致陶瓷成形体的整个温度分布不均匀,特别是复杂表面上的凸部温度比凹部高,该部分容易发生被称之为“干燥热裂”的不良现象。
由于此原因,对于上述复杂形状的陶瓷成形体的干燥,过去是通过炉内气氛干燥等热风干燥方式或自然放置的干燥方式来进行的。但是,热风环循方式或自然放置干燥工艺不但需要几十到几百小时或更长的时间,而且由于空气的影响使干燥状态起较大的变化,这会造成不容易管理的问题。
因而,本发明要解决的问题是消除现有技术中存在的缺陷,提供应用于具有较凹凸的复杂表面和比该复杂表面凹凸程度较小的简单表面的陶瓷成形体的,同时不会产生干燥热裂开在短时间内可完成干燥的干燥方法及装置。
为了完成上述目的,本发明的陶瓷成形体的干燥方法的特征是:对具有较凹凸的第1表面和比该第1表面凹凸程度较小的第2表面的陶瓷成形体加热时,由设置在第2表面侧的,主红外线加热器主要从第2表面侧进行加热。另外,本发明的陶瓷成形体的干燥装置的特征是:它具有主红外线加热器,该主红外线加热器对具有较凹凸的第1表面和比该第1表面凹凸程度较小的第2表面的陶瓷成形体进行加热时,由于主红外线加热器设置在第2表面侧,所以主要从第2表面侧进行加热。
如上所述,过去使用红外线加热器干燥陶瓷成形体的干燥方法只适用于平板类的简单形状的陶瓷成形体,在这种情况下,从里外表面放射的热量相等。但是,本发明以第1表面为凹凸的复杂表面、第2表面为比第1表面凹凸程度较小的简单表面的陶瓷成形体为对象,使红外线加热器不仅适用于这种陶瓷成形体的干燥场合,而且由设置在第2表面侧的红外线加热器主要从第2表面侧对陶瓷成形体加热后,可有效地防止现有技术中出现的干燥热裂,使成形体在更短的时间内得到干燥,这是已得到证实的事实。
在实施本发明时,可在凹凸不平的第1表面侧设置加热温度较低的辅助红外线加热器,从第1表面侧增加对陶瓷成形体进行辅助加热是很有利的。在这种场合下,由凹凸程度较小的形状简单的第2表面侧设置的主红外线加热器主要从第2表面侧对陶瓷成形体进行加热,除此之外,由辅助红外线加热器对难于传热的第1表面侧的凸部进行加热,所以可使整个瓷成形体的温度分布更均匀,特别是可更加确实地防止第1表面的凸部上出现干燥热裂现象。
在这种情况下,主红外线加热器和辅助红外线加热器中的至少一个以间歇运行时对陶瓷成形体的干燥是有利的,特别是当两个红外线加热器同时以间歇运行对陶瓷成形体的干燥也是适宜的。
主红外线加热器的温度设定在180-600℃的范围内是有利的。例如,在陶瓷成形体是悬垂瓷管时,主红外线加热器的温度最好设定在180-350℃范围内,而在陶瓷成形体使用绝缘瓷瓶时,主红外线加热器的温度最好设定在300-600℃的范围内。而且,除主红外线加热器外增设辅助红外线加热器的情况下,两个红外线加热器的温度差最好设定在30℃以上。
陶瓷成形体适用于在密闭干燥室内加热。在这种情况下,在容纳有陶瓷成形体和至少有主红外线加热器的干燥室内设置热风通风装置,这样,在干燥室内流通热风的同时对陶瓷成形体进行干燥是有利的。另外,热风的风速最好设定在0.1-0.5m/s,温度设定在陶瓷成形体的温度-150℃的范围内。
图1是实施本发明干燥方法的装置的一个实施例的断面图;
图2是图1的装置的主要部分的放大视图;
图3是实施本发明干燥方法的另一个实施例的透视图;
图4是图3的装置的主要部分的放大视图。
下面将参照附图详细描述本发明的优选实施例。
图1和图2是表示实施本发明的一个干燥装置的实施例。这种干燥装置具有可从外部封闭的干燥室1,具有基本水平支承表面的支承台2配置在干燥室1内。支承台2用于放置作为干燥对象的陶瓷成形体3,如图2所示具有支脚部件2a的固定或可动结构体构成。另外,例如在干燥室采用隧道形式的情况下,支承台2可由干燥室1内的循环输送带构成。
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