[发明专利]烃转化催化剂移动床连续再生设备有效
申请号: | 98112931.5 | 申请日: | 1998-07-24 |
公开(公告)号: | CN1062892C | 公开(公告)日: | 2001-03-07 |
发明(设计)人: | 彭世浩;刘德辉;刘太极;伍于璞;杨宝贵;尹祚明;徐又春;魏淑英;郑其祥 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工集团公司;中国石化集团洛阳石油化工工程公司 |
主分类号: | C10G35/12 | 分类号: | C10G35/12 |
代理公司: | 洛阳市专利事务所 | 代理人: | 陈元刚 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转化 催化剂 移动 连续 再生 设备 | ||
本发明涉及一种催化剂连续再生设备,特别适合烃转化催化剂(例如重整反应催化剂)的再生。
烃转化催化剂一般至少含有一种载体、一种金属和一种卤素(例如重整反应催化剂含有氯),催化剂颗粒直径在0.5-5.0mm范围之内。催化剂在上游反应过程中因积焦而失活,其再生步骤包括:烧焦、卤化、煅烧等,以上过程可在移动床中进行,美国专利US4578370中描述了移动床催化剂再生中的气体循环方法,其中涉及到的再生设备是与本发明最为接近的现有技术:待生催化剂从再生设备顶部催化剂入口进入再生设备,在重力作用下经多根分配管均匀分配到烧焦区由内网和外网围成的环形空间内,含氧气体从再生循环气入口和过热气入口进入再生设备,径向通过外网和催化剂床层后,进入内网围成的空间,由再生循环气出口排出,回到再生气外循环回路。烧焦后的催化剂向下经烧焦区底部导管进入氯氧化区补氯,然后继续下移进入煅烧区煅烧。含氧气体从含氧气体入口进入煅烧区与催化剂逆向接触轴向通过煅烧区床层,向上进入氯氧化区,与从含氯气体入口进来的含氯气体混合,并继续向上通过氯氧化区床层进入烧焦区内网围成的空间后与再生循环气混合,为烧焦供氧。煅烧后的催化剂经催化剂导管进入隔离区,氮气从氮气入口进入隔离区底部,催化剂经氮气吹扫后脱除吸附在表面的氧,由催化剂出口排出再生设备。从以上过程可以看出,从氯氧化区出来的具有腐蚀性的含氯气体未经任何处理直接进入烧焦区并进入再生气循环回路,这提高了烧焦区和再生气循环回路的材质;另一方面,从上游来的低温催化剂不经预热,直接进入烧焦区,这样不能充分发挥烧焦区的烧焦能力;再一方面,受再生设备结构的影响烧焦区气固相只能逆流接触。
本发明的目的在于提供一种对烧焦区材质没有特殊要求,烧焦能力可充分发挥,烧焦区气固相可逆流也可顺流接触的烃转化催化剂移动床连续再生设备。
本发明采用的技术方案为:烃转化催化剂移动床连续再生设备从上至下依次由烧焦区、氯氧化区、煅烧区、隔离区组成,其特征在于:在烧焦区上方还设置有缓冲区,烧焦区与氯氧化区之间只有催化剂导管相连通,氯氧化区设有含氯气体出口。
本发明可达到如下效果:
由于烧焦区与氯氧化区之间只有催化剂导管相连通,没有气相连通,此类烃转化催化剂流动特性使其在催化剂导管底部可自然堆止,阻止含氯气体由氯氧化区进入烧焦区,含氯气体由氯氧化区的含氯气体出口抽出,进行脱氯处理后,再进入再生气循环回路循环至烧焦区,这样从氯氧化区出来的具有腐蚀性的含氯气体不会直接进入烧焦区并进入再生气循环回路,因此降低了对烧焦区和再生气循环回路材质的防腐要求。在烧焦区上方设置缓冲区后,从上游来的低温催化剂不直接进入烧焦区,而是先进入缓冲区,在缓冲区内先进行预热再进入烧焦区,这样烧焦区的烧焦能力能充分发挥,同时由于增设了缓冲区,可保证催化剂的严格连续再生,提高了整个再生系统的效率。另外本发明烧焦区供氧方式可采用:含氯气体由氯氧化区的出口抽出进行脱氯处理后再进入再生气循环回路循环至烧焦区给烧焦区供氧,再生循环气出口设置于烧焦区上部,实现烧焦区气固相逆流接触,再生循环气出口设置于烧焦区下部,实现烧焦区气固相顺流接触,克服了现有技术中含氯气体直接由氯氧化区上升至烧焦区给烧焦区供氧的方式存在的烧焦区气固相只能逆流接触的缺陷。
下面结合附图详细说明本发明,但附图并不限制本发明。
附图及图面说明:
附图1:本发明催化剂再生设备的典型结构简图。
附图2:本发明催化剂再生设备的另一种结构简图。
附图3:本发明催化剂再生设备的又一种结构简图。
附图4:本发明催化剂再生设备的又一种结构简图。
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