[发明专利]构成阴极射线管中红滤光膜的方法

说明书

本发明涉及一种构成阴极射线管(CRT)红滤光片的方法，更具体地说，涉及一种用简单工艺构成红滤光片而又同时大大减少由于应用蚀刻剂对环境造成污染的方法。

一般，在CRT屏幕上是将红、兰及红发射萤光屏图象排列为点或条阵式的规则图形。在各萤光屏图象之间形成黑底，以改善荧屏对比度或色彩纯度。如果电子是从电子枪发射至屏幕上的，则荧光剂发射出构成理想图影象光。

对比度及亮度等性能是对CRT屏幕的重要要求。但是要改善这两种性能却非常困难，因为当两者中之一性能改善，都会使另一性能受到有害的影响。例如，玻璃屏板大都按照透光度分类为深色板、半深色板和亮色板。这些板的透光率分别为40-50％、50-60％及80-90％。这些板透光率的不同对于对比度和亮度的影响是相反的。换句话说，如果萤光屏是在深色板上形成的，外光线就被深色板吸收，对比度就会改善。但是，由荧光剂激发的光也被玻璃板吸收，于是亮度就减弱。相反，如果萤光屏是在亮色板上形成的，则大部分的荧光剂激发光就穿透此玻璃板，于是亮度增强。但是，外部光未被此玻璃板吸收，就会使对比度降低。

为解决这个问题，现已对改善对比度和亮度的方法进行了研究。在这些方法中，提出的是一种在相当于萤光屏图象的位置上构成一种滤光膜的方法。这种滤光膜通过吸收外部光线而改善了对比度，但是由于只选择性地吸收由荧光剂激发非必要波长的光而使亮度减弱的程度降低。因此，若使对比度保持相同，通过形成滤光膜会使亮度比没有滤光膜的改善20-30％。

通常采用石印术的方法形成滤光膜。按照石印术方法构成完全相反型的图象取决于所用光致抗蚀剂的类型，即正光致抗蚀剂，或负光致抗蚀剂。采用正光致抗蚀剂时，形成图象的曝光区域因显影液的作用而被除去。在采用负光致抗蚀剂时，形成图象的曝光区域被硬化，而其未曝光的区域则被显影液洗脱出。因此采用负光致抗蚀剂，通常荧光剂和滤光膜二者都形成。例如，将绿色颜料和光致抗蚀剂的混合浆液沉积在板的内表面，并将遮光板负载其上。接着使此沉积膜进行曝光和显影，就在曝光区域形成了绿滤光膜。

但是，采用如绿或兰滤光膜的相同方法是很难生产红滤光膜的。由于用作红颜料的氧化铁(Fe₂O₃)具有吸收紫外射线的性质，当照射紫外线时，就形成了不透明滤光膜片。因此，要形成红滤光膜必须采用不同于构成绿或兰滤光膜的方法。

在形成红滤光膜的常规方法中，采用无红颜料的负光致抗蚀剂。但是，按照这种方法，与其它常规方法相比，这种工艺就显得复杂化了。

图1A至图1F是说明构成红滤光膜常规方法的流程示意断面图。

参照图1A，首先，在屏板1上构成一黑底图象2。再如图1B所示，将无颜料的负光致抗蚀剂组合物涂敷在带有黑底图象2的屏板整个表面上，并加以干燥形成一种光致抗蚀剂层3。接着，用紫外射线5照射要通过遮光板4(图1C)形成绿及兰萤光屏的部位，再在曝光区(图1D)显影，形成光致抗蚀剂图象6G及6B。将颜料组合物沉积在具有光致抗蚀剂图案6G和6B的表面上，并进行干燥，形成滤光膜层7(图1E)。接着，再用过氧化氢对光致抗蚀剂图象6G及6B以及其上形成的滤光膜层7进行蚀刻。负光致抗蚀剂一般是由聚乙烯醇和双叠氮化物所组成和通过与过氧化氢的反应而膨胀。从而脱除了光致抗蚀剂图象6G及6B和脱除了其上形成的滤光膜层。其结果，在黑底图象2和在要形成红萤光屏图象(图1F)的区域上形成了红滤光膜7R。

然而，上述常规形成红滤光膜的方法存在下述一些问题。

第一，此方法要求有复杂的如形成黑底图象的方法。

第二，由于使用如过氧化氢的蚀刻剂引起环境污染。

为解决上述问题，本发明目的之一在于提供一种形成红滤光膜的方法，它能够减少对环境的污染和简化工艺。

为达到本发明上述目的，这里提供了一种形成红滤光膜的方法，包括步骤：将一种负光致抗蚀剂的组合物包括一种以下述通式(1)表达的一种化合物(PVA-SbQ涂敷于具有黑底图象的屏板上形成光致抗蚀剂层并将此光致抗蚀剂的预定部位进行曝光；和将红颜料组合物涂敷于此光致抗蚀剂上层，再进行干燥及显影此所得的结构：

其中l∶m∶n为1.0-4.5∶70.0-98.0∶1.0-20.0。

优选地是，以通式(1)表示的化合物的聚合度为300-4000。此外，此负光致抗蚀剂还包括一种0.5-1.0％(重)按通式(1)表示的化合物重量计的表面活性剂。