[发明专利]在衬底上制作表面结构特别是全息表面结构的方法和装置无效
申请号: | 98116879.5 | 申请日: | 1998-08-04 |
公开(公告)号: | CN1209590A | 公开(公告)日: | 1999-03-03 |
发明(设计)人: | R·德翁;B·波特斯基 | 申请(专利权)人: | HSM全息系统慕尼黑股份有限公司 |
主分类号: | G03H1/00 | 分类号: | G03H1/00;B44F1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 赵辛,林长安 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 制作 表面 结构 特别是 全息 方法 装置 | ||
1.一种在衬底上制作表面结构,特别是全息表面结构的方法,其特征在于:在衬底上涂覆辐射固化的物质,特别是辐射固化的单分子体(5);将浮雕图案引到涂层上并用经调制的射线束(1a,1b)使其固化。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,浮雕图案是通过一个圆柱体(10)来施加的。
3.根据权利要求1或2之一所述的方法,其特征在于,辐射是对衬底背离涂层的一面进行的。
4.根据任一前述权利要求所述的方法,其特征在于辐射是通过一个扫描器,特别是线性扫描器(12)来进行的。
5.根据任一前述权利要求所述的方法,其特征在于辐射由一个LCD(23)来实现。
6.根据任一前述根据权利要求所述的方法,其特征在于,整个过程重复一次或数次。
7.根据任一前述权利要求所述的方法,其特征在于,未固化的物质或单分子体被清洗掉。
8.一种在衬底上制作表面结构,特别是全息表面结构的装置,包括:
一个圆柱体(10),涂有辐射固化物质(5),特别是辐射固化的单分子体的衬底(4),可在其上被导向;一个辐射装置(1a,1b),用于通过已调制的射线束对涂覆衬底进行辐射。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于用来将衬底涂覆辐射固化物质,特别是辐射固化的单分子体的涂覆装置(8,9,9′)串接在圆柱体(10)的前面。
10.根据权利要求8或9之一所述的装置,其特征在于,辐射装置放在圆柱体(10)的外面。
11.根据权利要求8至10之一所述的装置,其特征在于辐射装置放在圆柱体(10)的里面。
12.根据权利要求8至11之一所述的装置,其特征在于辐射装置是一个扫描器,特别是线性扫描器(12)。
13.根据权利要求8至12之一所述的装置,其特征在于辐射装置是一个LCD(23)。
14.根据权利要求8至13之一所述的装置,其特征在于几种装置是一个接一个地串连在一起。
15.根据权利要求8至14之一所述的装置,其特征在于用来清洗未固化的物质或单分子体的清洗设备(33,34)是串接在圆柱体(10)的后面。
16.一种在衬底上制作表面结构,特别是全息表面结构的方法,其特征在于:
按需要制作的表面结构(44,57)在衬底(4)上涂覆一种辐射固化的物质,特别是辐射固化的单分子体;
这种物质被射线束(43,52)所辐射。
17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于辐射固化的物质或单分子体是通过专门的涂覆方法加到衬底(4)上的,例如喷射法,压印法等。
18.根据权利要求16所述的方法,其特征在于辐射固化的物质或单分子体先是涂覆到具有表面浮雕的圆柱体(10)上,经辐射(52)固化后再从圆柱体涂覆到衬底(4)上。
19.根据权利要求16至18之一所述的方法,其特征在于整个过程重复一次或数次。
20.一种在衬底上制作表面结构,特别是全息表面结构的装置,包括:
一个涂覆装置,用来将辐射固化的物质,特别是辐射固化的单分子体按照要制作的表面结构(44,57)涂覆到衬底(4)上;一个辐射装置(43,52),用来对这种物质进行辐射。
21.根据权利要求20所述的装置,其特征在于有一个圆柱体(10)。
22.根据权利要求20或21之一所述的装置,其特征在于涂覆装置可以是喷墨嘴(41),用来将辐射固化的物质或单分子体涂覆到衬底(4)和/或圆柱体(10)上。
23.根据权利要求20至22之一所述的装置中,其特征在于几个装置是一个接一个地串连起来的。
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