[发明专利]化学机械研磨机台

权利要求书

1.一种化学机械研磨机台，其特征在于，该机台包括：

一研磨台，以一固定方向旋转；

一研磨垫，设于该研磨台上；

一握柄，用以抓住一晶片的背面，将该晶片的正面压在该研磨垫上；

一履带式调节刷，置于该研磨垫上，用以刮平该研磨垫的表面，去除残留在该研磨垫上的杂质；以及

一管件，置于该研磨垫上方，用以输送一研磨液至该研磨垫。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷包括：

一长轴主体结构；

一履带，包覆于该长轴主体结构的外侧，以一固定速率转动；

复数个滚轮，该各滚轮的轴向平行排列，该各滚轮位于该履带内侧且与该履带接触，所以，该各滚轮会被该履带带动而跟着转动；以及

复数个硬颗粒，分布于该履带的表面，用以刮平该研磨垫的表面，去除残留在该研磨垫上的杂质。

3.如权利要求2所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷还包括一清洗装置，该清洗装置装设于该履带式调节刷远离该研磨垫的一端，用以清洗残留在该履带上的杂质。

4.如权利要求3所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该清洗装置还包括一清洗刷，该清洗刷与该履带式调节刷的表面相接触。

5.如权利要求3所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该清洗装置还包括一喷水器，用以喷出所需的清洗液到该清洗刷与该履带式调节刷之间的接触面。

6.如权利要求2所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷的该履带包括一皮带。

7.如权利要求2所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷的该各硬颗粒包括碎钻石颗粒。

8.如权利要求2所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷还包括一转动驱动器，位于该长轴主体结构上，用以驱动该履带。

9.如权利要求1所述的化学机械研磨机台，其特征在于，还包括一液泵，连接于该管件的该管件柄上，用以将该研磨液抽送到该管件中。

10.如权利要求1所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷为一长条型。

11.如权利要求1所述的化学机械研磨机台，其特征在于，该履带式调节刷的长度约大于该晶片的直径。

12.一种用于化学机械研磨机台的调节刷结构，其特征在于，该调节刷结构包括：

一长轴主体；

一履带，包覆于该长轴主体的外侧，以一固定速率转动；

复数个滚轮，该各滚轮的轴向平行排列，该各滚轮位于该履带内侧且与该履带接触，该各滚轮会被该履带带动而跟着转动；以及

复数个硬颗粒，分布于该履带的表面，用以刮平该研磨垫的表面，去除残留在该研磨垫上的杂质。

13.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，还包括一清洗装置，该清洗装置装设于该履带式调节刷远离该研磨垫的一端，用以清洗残留在该履带上的杂质。

14.如权利要求13所述的调节刷结构，其特征在于，该清洗装置还包括一清洗刷，该清洗刷与该履带的表面相接触。

15.如权利要求13所述的调节刷结构，其特征在于，该清洗装置还包括一喷水器，用以喷出所需的清洗液到该清洗刷与该履带之间的接触面。

16.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，该长轴主体为一长条型。

17.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，该长轴主体的长度约大于一被研磨的晶片直径。

18.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，该履带包括一皮带。

19.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，该硬颗粒包括碎钻石颗粒。

20.如权利要求12所述的调节刷结构，其特征在于，还包括一转动驱动器，位于该长轴主体上，用以驱动该履带。