[发明专利]改进抛光垫结构的抛光机无效

专利信息
申请号: 98117633.X 申请日: 1998-08-24
公开(公告)号: CN1072998C 公开(公告)日: 2001-10-17
发明(设计)人: 佐藤真己 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 改进 抛光 结构 抛光机
【权利要求书】:

1.一种抛光机,其结构为晶片要抛光的表面与分布在旋转表面板上的抛光垫滑动接触,同时抛光液提供到抛光垫上;为了抛光所述晶片要抛光的所述表面,其中所述抛光垫至少包括一个下抛光网,由较软材料形成并分布在所述旋转表面板的表面上,和一个上抛光网,由较硬的材料形成并且以不透水的方式完全覆盖整个所述下抛光网,以防止包括在所述抛光液中的水浸入到所述下抛光网内。

2.根据权利要求1的抛光机,其中所述上抛光网大于所述下抛光网,并且所述上抛光网的周边部分粘附到所述旋转表面板的周边部分,下抛光网没有介于所述旋转表面板和所述上抛光网的周边部分之间,由此所述下抛光网完全由所述上抛光网和所述旋转表面板不透水地密封。

3.根据权利要求1的抛光机,其中所述上抛光网的所述周边部分粘附到所述旋转表面板的所述周边部分,粘附层作为中间介质,下抛光网没有介于所述旋转表面板和所述上抛光网的周边部分之间,由此所述粘附层介于至少所述上抛光网的周边部分和旋转表面板之间。

4.根据权利要求3的抛光机,其中所述粘附层具有防水特性。

5.根据权利要求3的抛光机,其中所述粘附层为双面覆粘附剂的防水胶带。

6.根据权利要求2的抛光机,其中所述上抛光网具有完全由双面覆粘附剂的防水胶带覆盖的下表面,其粘附到所述下抛光网和所述旋转表面板的所述周边部分。

7.根据权利要求6的抛光机,其中所述下抛光网由无纺织物形成。

8.根据权利要求7的抛光机,其中所述下抛光网和上抛光网由聚氨基甲酸乙酯形成。

9.根据权利要求1的抛光机,其中所述上抛光网具有完全由双面覆粘附剂的防水胶带覆盖的下表面,其以不透水的方式粘附完全覆盖整个所述下抛光网和所述旋转表面板的周边部分,以便所述下抛光网完全由所述防水粘附层和所述旋转表面板密封。

10.根据权利要求9的抛光机,其中所述粘附层为双面覆粘附剂的防水胶带。

11.根据权利要求9的抛光机,其中所述下抛光网由无纺织物形成。

12.根据权利要求11的抛光机,其中所述下抛光网和上抛光网由聚氨基甲酸乙酯形成。

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