[发明专利]进行结构化的方法

权利要求书

1．对至少一个欲结构化的物料层进行结构化的方法，其步骤包括：

-在欲结构化的物料层上涂敷一个掩膜，

-在涂敷上述掩膜的情况下，对欲结构化的物料层进行结构化作用，

-除去上述掩膜，其中保留了该欲结构化的物料层上的再沉积物，

-用声波作用除去上述欲结构化的物料层上的再沉积物。

2．根据权利要求1的方法，其特征是，上述掩膜是漆质掩蔽物，后者宜通过灰化予以除去。

3．对至少一个欲结构化的物料层进行结构化的方法，其步骤包括：

-在欲结构化的物料层上涂敷一个掩膜，

-在涂敷掩膜的情况下，对欲结构化的物料层进行结构化作用，

-用声波作用除去上述欲结构化的物料层的掩膜与再沉积物。

4．根据权利要求1-3中之一的方法，其特征是上述声波作用是通过一个超声波池，粗声波装置，或受声波作用的液体喷射装置实施的。

5．根据权利要求1-4中之一的方法，其特征是用“洗涤器”净化过程在除去上述的再沉积物之后进行。

6．根据权利要求1-5中之一的方法，其特征是用湿式化学净化过程在除去上述的再现积物之后进行。

7．根据权利要求5或6中之一的方法，其特征是该净化过程是借助于声波作用进行的。

8．根据权利要求1-7中之一的方法，其特征是上述欲结构化的物层含有铜、铁、钴、镍、第4d或5d的过渡金属，特别是铂金属。

9．根据权利要求1-7中之一的方法，其特征是上述欲结构化的物层含有铁电物质，具有高介电常数的电解质物质，钙钛矿或这些物质的前体。

10．根据权利要求9的方法，其特征是该欲结构化的物层含有钽酸锶铋(SBT,SrBi₂ Ta₂O₉)，铌酸钽酸锶铋(SBNT,SrBi₂ Ta_2-xNbxO₉,X=0-2),锆酸钛酸铅(PZT,Pb(Zr,Ti)O₃)或其衍生物，或者钛酸钡锶(BST,BaxSr_1-xiO₃,X=0-1)，钛酸铅镧(PLT,(Pb,La)TiO₃)，钛酸锆酸铅镧(PLZT,(Pb,La)(Zr,Ti)O₃)或其衍生物。

11．根据权利要求8的方法，其特征是上述欲结构化的物层含有铂、金、银、铱、钯、钌、铼或其氧化物。

12．根据前述权利要求中之一的方法，其特征是在上述欲结构化的物层进行干式刻蚀时，采用不含有反应性气体的混合气体。

13．根据前述权利要求中之一的方法，其特征是在上述欲结构化的物层进行干式刻蚀时，所采用的混合气体中，除了含惰性气体与氮气外，只含有氧气。

14．根据前述权利要求中之一的方法，其特征是在上述欲结构化的物层进行干式刻蚀时，采用一种惰性气体，特别是氩气。

15．根据权利要求1-14中之一的方法，其特征是，上述的掩膜含有硅，氧化硅，特别是SiO₂，金属，特别是铝或钨，金属的氮化物，如氮化钛，特别是TiN_x(0.8＜X＜1.2)，或者金属的硅化物。

16．根据前述权利要求中之一的方法，其特征是所采用的声波的频率在予定的频率范围上变化。