[发明专利]多金属氧酸盐的单层和多层分子组装体系无效

专利信息
申请号: 98118150.3 申请日: 1998-08-25
公开(公告)号: CN1101253C 公开(公告)日: 2003-02-12
发明(设计)人: 程龙;董绍俊;牛利 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12
代理公司: 长春科宇专利代理有限责任公司 代理人: 曹桂珍
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 金属 氧酸盐 单层 多层 分子 组装 体系
【说明书】:

发明属于多金属氧酸盐的单层和多层分子组装体系的制备方法。

多金属氧酸盐(Polyoxometallates,POMs)是一类范围很广、发展很快的化合物。POMs具有许多独特的分子性质,包括分子组成,大小,形状,电荷密度,redox电位,酸性和溶解性等,因而它在催化,医药和材料科学等领域有着重要的理论研究价值和广泛的应用前景(Chem.Rev.1998,18,1-387)。把各种POMs修饰到电极表面制成化学修饰电极(CME),不但简化了对它们理化性质的研究,而且促进了它们广泛的应用。而现有的一些修饰方法,主要包括电沉积法、吸附法和聚合物掺杂法(Shiu,K.-K.;Anson,F.C.J.Electroanal.Chem.1991,309,115),都具有一些缺陷,如使被修饰物变性、稳定性差、结构不明确和修饰量难以精确控制等。最近Faulkner和Anson等人利用POMs与水溶性大阳离子交替吸附的方法制备了多层分子组装体系(Ingersoll,D.;Kulesza,P.J.;Faulkner,L.R.J.Electrochem.Soc.1994,141,140.Kuhn,A.;Anson,F.C.Langmuir,1996,12,5481.)。其中POMs的第一吸附层对于后续的多层沉积是至关重要的基础,能直接吸附到电极基底上去的POMs仅限于数量较少的一些钼氧酸盐,而大多数POMs不能直接吸附,因而不能用此法来修饰。

本发明的目的是提供一种普适的方法来修饰不同种类的POMs到电极表面上去。

本发明的目的是这样实现的,首先硫醇(thiol)化学吸附在贵金属电极表面形成一层单分子自组装膜,然后在这层高度有序的单分子基膜上,根据POMs能与大阳离子物质(CS)形成不溶性离子对的性质,利用浸泡、循环伏安扫描或恒电位的成膜手段,把POMs与大阳离子物质交替沉积到电极表面上去,形成POMs的单层和多层修饰膜。

本发明的修饰方法采用以下三个步骤:

(1)硫醇单分子基膜的制备:在室温下把干净的金电极浸入到0.05~500mM硫醇的水或乙醇溶液中0.5~50小时,取出冲洗得到硫醇自组装单分子膜修饰的金电极Au/thiol,所用的硫醇是末端基团可离子化为带正电荷的HS-R-NH2、或负电荷的HS-R-COOH,其中R代表具有2~20个碳原子的烷基,或苯基及其衍生物;

(2)POMs单层膜的制备:对于末端基团可离子化为带正电荷的硫醇单分子基膜Au/thiol+,将其浸泡在0.01~1.0M POMs溶液中0.5~48小时,或循环伏安扫描0.1~3小时,或恒电位0.1~3小时,取出冲洗得到POMs单层膜Au/thiol+/POMs;对于末端基团可离子化为带负电荷的硫醇单分子基膜Au/thiol-,利用与上面同样的修饰方法,先在大阳离子物质CS的溶液中修饰一层CS膜,取出冲洗后再在POMs溶液中修饰得到POMs单层膜Au/thiol-/CS/POMs;所用的POMs有:(a)同多化合物(IPA):同多钼酸盐、同多钨酸盐、同多钒酸盐和混配金属同多阴离子,(b)杂多化合物(HPC):钼系列HPC、钨系列HPC和混配型HPC,其它POMs亦能通过此法来修饰;所用的CS是那些能与POMs形成沉淀的带正电荷的大分子化合物:(a)正一价的表面活性剂分子:含1~16个碳原子的烷基吡啶阳离子和R(R’)3NH4+,其中R代表1~22个碳原子的烷基、R’代表1~5个碳原子的烷基;(b)高价金属配合物阳离子:Fe(phen)32+、Ru(bpy)32+、Os(bpy)32+和水溶性阳离子卟啉、酞箐化合物;(c)带正电荷的聚合物:季铵化聚四乙烯吡啶(QPVP),聚乙烯亚胺(PEI)和聚丙烯胺(PAH),聚吡咯(PPy),聚甲基吡咯(PMPy);

(3)POMs多层膜的制备:把根据步骤(2)制备的POMs单层膜电极交替地在CS和POMs溶液中进行静电沉积修饰,修饰过程同步骤(2),通过选择交替沉积的次数便可以控制多层膜的厚度,通过选择不同种类的POMs和CS及其沉积顺序,便可以得到不同组成和不同结构的POMs多层膜。

本发明所述的POMs单层、多层分子组装体系的制备方法与以往方法比较,具有以下特点:

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