[发明专利]沸水反应器的锻造的整体式罩凸缘无效
| 申请号： | 98118543.6 | 申请日： | 1998-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN1221195A | 公开（公告）日： | 1999-06-30 |
| 发明（设计）人： | 松本俊男杰克;A·B·法伊夫 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G21C19/00 | 分类号： | G21C19/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平,黄力行 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沸水 反应器 锻造 整体 凸缘 | ||
1．一种沸水反应器(100)的罩(112)的锻造的上罩段(200)，所述上罩段(200)包括：
一圆柱罩壳(204)；和
在所述罩壳(204)的一端上的一圆形凸缘(202)，所述凸缘(202)与所述罩壳(204)成一体。
2．一种如权利要求1所述的锻造的上罩段(200)，其特征在于：在所述凸缘(202)上还包括多个孔和多个缝槽(206)中的至少一个。
3．如权利要求1所述的锻造的上罩段(200)，其特征在于：在所述圆柱罩壳(204)的内表面(210)上还包括沟槽(208)。
4．一种如权利要求1所述的锻造的上罩段(200)，其特征在于：所述圆柱形壳体(204)的一端(202)的形状适宜于与另一罩段(112)焊接。
5．一种如权利要求1所述的锻造的罩段(200)，其特征在于：其还包括一在所述凸缘(202)和所述圆柱形壳体(204)之间延伸的角撑板(214)。
6．一种沸水反应器(100)用的罩(112)，所述罩(112)包括：
至少一个圆柱形段；和
一锻造的上罩段(202)，该上罩段包括一圆柱形罩壳(204)和在所述罩壳(204)的一端上的一圆形凸缘(202)，所述凸缘(202)与所述罩壳(204)成一体，所述上罩段(200)与所述圆柱段焊接。
7．一种如权利要求6所述的罩(112)，其特征在于：在所述凸缘(202)上还包括多个孔和多个槽(206)中的至少一个。
8．一种如权利要求6所述的罩(112)，其特征在于：在所述圆柱形罩壳(204)的一内侧包括一沟槽(208)。
9．一种如权利要求6所述的罩(112)，其特征在于：其还包括一在所述凸缘(202)和圆柱形壳体(204)之间延伸的角撑板(214)。
10．一种如权利要求6所述的罩(112)，其特征在于：所述圆柱形罩壳(204)的厚度应能承载罩头的负荷和顶部引导隔栅的径向负荷。
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