[发明专利]磁信息存储媒体用的玻璃陶瓷基板

权利要求书

1.一种磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是，主结晶相为从α-石英(α-SiO₂)、α-石英固溶体(α-SiO₂固溶体)、α-方石英(α-SiO₂)以及α-方石英固溶体(α-SiO₂固溶体)中选择至少一种以上和焦硅酸锂(Li₂O·2SiO₂)，在-50～+70℃的热膨胀系数为+65～+130×10^-7/℃，研磨加工后的表面粗糙度(Ra)为3-9。

2.如权利要求1记载的磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是实质上不含有Na₂O和PbO。

3.如权利要求1或2中记载的磁信息存储媒体的玻璃陶瓷基板，其特征是，焦硅酸锂结晶粒子具有球状粒子形态，其粒径在0.05-0.30μm范围内，α-石英及α-石英固溶体的结晶粒子具有多个粒子凝集的球状粒子形态，其粒径在0.10-1.00μm范围内，α-方石英及α-方英石固溶体的结晶粒子具有球状粒子形态，其粒径在0.10-0.50μm范围内。

4.如权利要求1-3的任何一项记载的磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是，玻璃陶瓷板所含的各种成分其重量百分率是：

SiO₂                    70-80％

Li₂O                    9-12％

K₂O                     2-5％

MgO                      0.5-4.8％

ZnO                      0.2-3％

但MgO+ZnO                1.2-5％

P₂Os                    1.5-3％

ZrO₂                    0.5-5％

Al₂O₃                  2-5％

Sb₂O₃+As₂O₃          0-2％

5.如权利要求1-4的任何一项记载的磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是，为了使含有上述范围各种成分的原玻璃形成核，应在450℃-550℃的核形成温度热处理1-12小时，并且，为使结晶成长，应在680-800℃的结晶化温度热处理1-12小时后，研磨表面使其粗糙度(Ra)为3-9。

6.如权利要求1-5的任何一项记载的磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是，在有效数据区和起仃区的信息存储媒体用的玻璃陶瓷基板上，用CO₂激光照射该起仃区，形成无数个凹凸或突起。

7.如权利要求1-6的任何一项记载的磁信息存储媒体用玻璃陶瓷基板，其特征是，在起仃区用用CO₂激光形成无数个凹凸或突起，其凹凸或突起的高度为50-300，表面糙度(Ra)为10-50，该凹凸或突起的间隔为10-200μm。

8.一种磁盘，是在权利要求1-7的任何一项记载的磁信息存储媒体用的玻璃陶瓷基板上，形成磁性膜和根据需要形成底层、中间层、保护层及润滑层等面构成的磁盘。