[发明专利]密封及区域旋转型窑栅对流式固体处理装置无效

专利信息
申请号: 98120878.9 申请日: 1998-09-30
公开(公告)号: CN1213767A 公开(公告)日: 1999-04-14
发明(设计)人: B·E·约翰逊;J·P·多彻蒂 申请(专利权)人: 泰金特技术股份有限公司
主分类号: F27B7/00 分类号: F27B7/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 顾峻峰
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 密封 区域 旋转 型窑栅 对流 固体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种用于干燥和加热颗粒物料的窑,该窑包括:

一具有多个第一增压室的基座,每个第一增压室均具有一气体入口和一气体出口;

一具有多个第二增压室的上腔,每个第二增压室都是对准的,以便接收来自第一增压室之一的气体出口的气体;以及

一位于所述基座和所述上腔之间并且可在其间转动的窑床,窑床包括一窑栅和多个位于窑栅和第一增压室之间的第三增压室,窑栅限定了每个第三增压室的排出口,所述多个第三增压室中至少两个相邻的增压室处在这样的位置上,即,可以接收来自第一增压室之一的气体出口的气体,并且可以通过排出口将气体排入第二增压室。

2.如权利要求1所述的窑,其特征在于,所述窑栅是由多个重叠的板件构成,这些板件由位于板件之间的间隔件分开,间隔件和重叠的板件一起限定了多个第三增压室中的每个增压室的开口。

3.如权利要求Ⅰ所述的窑,其特征在于,所述各第二增压室与各第一增压室对准。

4.如权利要求1所述的窑,其特征在于,它还包括多个相对于所述可动窑床固定设置的搅拌器,每个搅拌器的末端靠近窑栅的与多个第三增压室相对的那一表面,以便当窑栅相对搅拌器移动时可以接近沉积在窑栅上的颗粒状物料。

5.如权利要求1所述的窑,其特征在于,它还包括一个或多个用于将颗粒物料供给到窑栅上的进料槽。

6.如权利要求1所述的窑,其特征在于,它还包括至少一个卸料搅拌器和一个卸料螺杆,它们靠近窑栅的表面,以便与沉积在窑栅上的颗粒物料接触,并将与它们接触的颗粒物料从窑内排出。

7.如权利要求1所述的窑,其特征在于,所述第二增压室中的每一个都是由垂直于窑栅移动方向的一对挡板限定,每个挡板的末端与窑栅隔开的距离足以让沉积在窑栅上的物料通过窑栅和挡板末端之间。

8.如权利要求4所述的窑,其特征在于,所述多个搅拌器是由至少一个传送搅拌器和一个混合搅拌器组成。

9.如权利要求5所述的窑,其特征在于,所述两个进料槽的位置可以将颗粒物料沿(ⅰ)相同的路径(ⅱ)不同的路径这两种情况之一沉积到窑栅上。

10.一种窑床可动的窑,包括:

一具有一气体出口的第一下增压室;

一具有一气体入口的第一上增压室;

一位于第一下增压室和第一上增压室之间并且可在两者之间转动的窑床,该窑床包括一窑栅,窑栅具有一用于支承受处理物料的表面以及位于窑栅和第一下增压室之间的一对相邻的增压室,所述窑栅限定了成对相邻的增压室中的每个增压室的用于排出气体的开口,成对相邻增压室中的每一个增压室的位置是这样的,即,可以接收来自第一下增压室的气体出口的气体,可以将接收到的气体通过窑栅内的开口引导至第一上增压室的气体入口。

11.如权利要求10所述的窑,其特征在于,它还包括:

一靠近所述第一下增压室的第二下增压室,所述第二下增压室具有一气体出口;

一靠近所述第一上增压室的第二上增压室,所述第二上增压室具有一气体入口;以及

一位于所述第一下增压室和第二下增压室之间的挡板,该挡板与第一和第二下增压室协作,当窑床的相邻增压室的每一个从与第一下增压室流体连通的状态移动至与第二下增压室的流体连通状态时,所述窑床的相邻增压室的每一个只能接收来自第一下增压室和第二下增压室之一的气体出口的气体。

12.如权利要求11所述的窑,其特征在于,

所述第一下增压室具有一用于接收第一气体的第一气体入口,而所述第二下增压室具有一用于接收第二气体的第二气体入口;以及

所述第一上增压室具有一第一气体出口,而第二上增压室具有一第二气体出口。

13.如权利要求12所述的窑,其特征在于,所述第一气体和第二气体是不同的。

14.如权利要求12所述的窑,其特征在于,所述第一气体出口和第二气体出口连接于一排气总管。

15.如权利要求11所述的窑,其特征在于,它还包括多个搅拌器,这些搅拌器的末端边缘靠近窑栅表面,以便当窑床相对于搅拌器移动时,使窑栅上的受处理物料移动。

16.如权利要求11所述的窑,其特征在于,第一下增压室和第二下增压室分别与第一上增压室和第二上增压室对准。

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