[发明专利]具有带倾斜处理路径的处理设备的处理组件

权利要求书

1．一种用于处理感光材料的处理组件，此处理组件包括：

一处理设备，具有一第一部分，带有感光材料的一第一处理路径，所述第一处理路径包括许多喷咀，所述喷咀向感光材料供应处理溶液，此处理设备还包括一第二部分，此部分包括一个与所述第一部分的一出口连通的入口，所述第二部分包括一第二处理路径，从所述第二部分的入口延伸到一第二部分的出口用于通过感光材料所述第二处理路径从第二部分的入口到出口以一个角度向上倾斜并包括沿着第二处理路径一段长度的许多溢流处理区段，每一溢流处理区段包括一第一分部，用于沿着倾斜的第二处理路径导引感光材料，以及一第二分部，从第一分部延伸并可在其中保持处理溶液，每一所述第二分部包括一传送滚轮组件的一第一滚轮，其中传送滚轮组件可经过第二处理路径从第二部分的入口到出口向上传送感光材料，冲洗溶液从所述第二部分的出口附近被供向第二处理路径以使处理溶液沿向下倾斜的方向沿着倾斜的第二处理路径下落，以致使处理溶液沿着第一分部被导入第二分部以使处理溶液溢出第二分部并流向相邻的第一分部。

2．按照权利要求1所述的一种处理组件，其中所述第一处理路径是垂直地设置的，以便从第一部分的入口到出口沿一垂直方向向下导引所述感光材料，所述喷咀随着感光材料沿着第一处理路径被导引而向感光材料供应处理溶液。

3．按照权利要求1所述的一种处理组件，其中第一分部和第一处理路径的至少一个表面包括一纹理表面，而第一分部比所述第二处理路径具有一更陡的倾角，第二分部限定了一弯曲的托盘部分，而所述传送滚轮组件的第一滚轮设置在所述弯曲的托盘部分之中，以致所述第一滚轮至少部分地浸没在处理溶液之中。

4．按照权利要求3所述的一种处理组件，其中所述第二部分包括一对置表面，对比所述各溢流处理区段是在第二倾斜的处理路径的对置一侧，所述对置表面包括许多盖罩部分，所述盖罩部分对应于弯曲的托盘部分并覆盖所述传送滚轮组件的一第二滚轮，所述第二滚轮对置于所述第一滚轮，而感光材料通过它们之间。

5．按照权利要求2所述的一种处理组件，其中沿着所述第二处理路径下落的所述处理溶液通过所述第一部分的出口进入第一部分并收集在所述第一部分的一下部中，所述处理设备还包括一重新循环系统，该系统把收集在第一部分下部处的处理溶液重新循环到第一部分的喷咀。

6．按照权利要求1所述的一种处理组件，其中所述处理设备是冲洗设备、定影设备、显影设备和漂白设备之中的一种，所述处理溶液是冲洗溶液、定影溶液、显影溶液和漂白溶液之中的一种。

7．一种处理设备，用于一种处理感光材料的处理组件中，此处理设备包括：

一第一部分，具有一进口和一出口以及一在它们之间延伸的用于通过感光材料的第一处理路径，所述第一部分沿着第一处理路径包括许多喷咀，用于向感光材料供应溶液；以及

一第二部分，只有一入口和一出口以及一在它们之间延伸的用于通过感光材料的第二处理路径，所述第二处理路径具有一从第二部分的入口到出口的向上倾角，第二部分的所述入口接纳离开第一部分的出口的感光材料，所述第二部分包括一第一构件，该构件具有许多沿着第二处理路径的孔口和设置在孔口之间的导引表面，以致从第二部分的出口附近引入第二处理路径的溶液将从第二部分的出口到入口沿着第二处理路径向下流动，而沿着第二处理路径向下流动的溶液由每一导引表面导入一相应的孔口，以便从孔口溢流。

8．按照权利要求7所述的一种处理设备，其中所述第一和第二处理路径限定了一大致的V形。

9．按照权利要求7所述的一种处理设备，其中所述导引表面和所述第一处理路径的至少一个表面包括一纹理表面。

10．按照权利要求7所述的一种处理设备，其中沿着所述第二处理路径向下流动的溶液通过第二部分的入口离开第二部分并通过第一部分的出口进入第一部分的一下部，此溶液被收集在第一部分的下部。

11．按照权利要求10所述的一种处理设备，还包括一重新循环系统，该系统把第一部分的下部处的溶液重新循环到第一部分的喷咀。

12．按照权利要求7所述的一种处理设备，其中所述第二部分的入口邻近于第一部分的出口。