[发明专利]一种等中心放射治疗装置

说明书

本发明涉及一种放射治疗装置，确切讲是一种放射源位置固定，并要求治疗位置与放射源为等中心的装置。本发明的装置中包括设于一固定位置的放射源，其屏蔽放射源的屏蔽体由固定屏蔽体和位于固定屏蔽体中，带有准直照射孔的活动屏蔽体组成，在活动屏蔽体上固定一转臂，转臂的另一端设置一大轴承的外圈，在所述大轴承内圈内的设置治疗床以及可使所述的治疗床沿至少一维方向进行调整运动的机构。

目前普遍应用的γ射线治疗装置采用治疗位置固定，而将γ源设置于一可移动的等中心圆弧线上，这种装置需要放射源、准直照射装置及屏蔽体均沿弧线运动，这对于采用体积庞大且笨重的放射源，如中子源或快中子源等，为放射源的治疗装置显然是不适合的，因为这一类放射源本身及其屏蔽体的体积和重量要比比γ射线源要大的多、重的多，将这类放射源置于等中心弧上并使其运动在技术上是难于实现的。

为克服上述技术不足的一种方式是如美国辐射动力公司采用的将放射源位置固定，让屏蔽体沿放射源的中轴旋转，使准直孔与旋转轴线垂直或基本上垂直，且其照射角度随屏蔽体的转动而改变的等中心放射治疗装置，这种装置实际上是让放射源固定，使治疗位置沿一固定的运动半径绕放射源转动，同时使治疗床面保持近似水平的平动运动。现有技术装置的实际结构是在固定设置的放射源上设置两块固定屏蔽体，在两块固定屏蔽体中设置一块可绕放射源转动的活动屏蔽体，在活动屏蔽体上设置准直照射孔，并在活动屏蔽体上固定一转臂，转臂的另一端设置一个大轴承的外圈，在大轴承的内圈内设置其床面可沿至少一维方向运动的治疗床系统，同时使大轴承和位其内的治疗床的质心位于大轴承下半圆内并处于治疗床面在水平位置时治疗床的纵轴线上。现有技术在使用时通过活动屏蔽体及所带动的转臂转动，使放射源始终处于转动的圆心位置，而处于大轴承内圈的治疗床系统一面绕放射源公转，同时治疗床面在绕放射源公转时在其自重的作用下产生相对自身轴线的自转，其自转的角速度与公转的角速度大小相等，方向相反，从而使治疗床面始终保持在水平位置，如果将肿瘤位置调到大轴承内圈的轴线上，并使准直线束射向肿瘤，则无论治疗床转到什么位置，准直线束始终指向肿瘤。现有技术存在的问题是如果大轴承太灵活，由于惯性作用位于其内圈的治疗床有可能在平衡位置作小辐度的摆动；如果大轴承不太灵活，由于磨擦力的作用治疗床系统的自转又可能滞后于大轴承公转的变化，从而造成位置的不确定性。换言之，现有技术的装置对大轴承内外圈之间的磨擦力的要求极为苛克，只有使大轴承内外圈之间的磨擦力为适当时才可以满足设计的要求，而实现这一点在实践上是非常困难地。

本发明的目的是提供一种在现有技术基础上经改进的一种放射源位置固定的等中心放射治疗的装置，该装置可以完全克服现有技术的不足，能完全避免现有技术中对大轴承内外圈磨擦力的苛克要求，始终保持治疗床面位于水平位置。

本发明的目的通过以下措施实现：即在现有技术的固定屏蔽体上设置其直径与大轴承内圈直径相等且其轴线与转臂轴重合的圆形物，在所述的圆形物与大轴承内圈间环绕套有其周长等于圆形物和大轴承间圆心距的两倍与圆形物外圆周长之和的带状物，且所述的带状物环绕所述的圆形物的部分上有一点与圆形物相固定，在带状物上与前述固定点相距带长的二分之一处有另一点与大轴承内圈相固定。

在本发明的实施例中还给出最佳的实施方式。

由本发明实现方式可见本发明的结构中由于在圆形物与大轴承的内圈间固定有一根带状物，当转臂转动且在转动范围为±(π/2)时，圆形物与大轴承内圈间的运动相当于圆形物与大轴承内圈间无滑动的“磨擦传动”，此时随转臂的转动，治疗床系统如同现有技术一样即“公转”又“自转”，同时在带状物的作用下始终精确地保持大轴承的自转角速度与公转角速度大小相等，方向相反，将治疗床面“拉”至水平位置，实现治疗床系统的严格平动，而不会出现现有技术中治疗床位置不确定的不足。本发明在转臂转动范围小于或等于±(π/2)时，无论治疗床转至任何位置，所述的带状物绐终将治疗床“拉”至其床面位于水平位置处。如欲使本发明的治疗床转动范围大于±(π/2)，可采用将带状物在圆形物和大轴承上的个固定点调整设置在的另外的位置的方式解决。通过对本发明的结构的解说还可见，本发明对大轴承内外圈间磨擦力无任何要求，完全不存在现有技术中对大轴承内外圈磨擦力的苛克要求；而且本发明的结构非常简单，易于实现。

附图说明

附图1为本发明一个实施例的剖视位置简化示意图，附图2为附图1的右视位置简化示意图，并在附图2中表现了治疗床在不同位置时的情况。