[发明专利]阴极射线管的制造方法及制造装置无效

专利信息
申请号: 98124214.6 申请日: 1998-11-09
公开(公告)号: CN1217560A 公开(公告)日: 1999-05-26
发明(设计)人: 长谷川隆弘;菅原繁;铃木史人;宫永文雄;矢羽克巳 申请(专利权)人: 东芝株式会社
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20;H01J29/88
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 方晓红
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 阴极射线管 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种阴极射线管的制造方法,其阴极射线管设有:

分别具有发射排成一列通过水平面内的多个电子束的电子束发生部以及使从该电子束发生部发射的电子束通过的通孔、且设有沿该电子束的行进方向相互间隔设置的多个电极的电子枪;

发生使从该电子枪发射的电子束向靶上的水平方向以及垂直方向偏转的磁场的偏转线圈;

包括容纳所述电子枪的管颈部、形成所述靶的面板部、以及内径从所述管颈部向面板部扩大的玻锥部的外围部;

从所述玻锥部到管颈部的内壁包覆形成的内部导电膜;

与该内部导电膜接触、同时以覆盖所述电子枪局部的状态在所述管颈内壁上包覆形成的、电阻值高于所述内部导电膜的高电阻膜,

其特征在于,具有:以使所述管颈部沿大致垂直方向延伸的状态设置所述外围部的设置工序;

供给形成所述高电阻膜用的原料液的供给工序;

以从比垂直于该内壁的方向更向重力方向倾斜的方向把原料液涂敷于沿大致垂直方向延伸的所述管颈部内壁的状态将用所述供给工序供给的原料液向所述内壁喷射、并在该内壁上形成所述高电阻膜的喷射工序。

2.根据权利要求1所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,使原料液的喷出方向比与所述管颈部内壁垂直的方向更向重力方向倾斜。

3.根据权利要求2所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,通过沿所述喷出方向倾斜延伸的至少1个喷射孔喷出原料液。

4.根据权利要求3所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,使所述至少具有1个喷射孔的喷嘴在所述管颈部的内侧旋转并喷射原料液。

5.根据权利要求1所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,通过调节每一单位时间的原料液喷出量,使喷出的原料液与所述管颈内壁碰撞的方向向重力方向倾斜。

6.根据权利要求5所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,通过向着所述管颈部内壁的至少1个喷射孔喷出原料液。

7.根据权利要求6所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,使所述具有至少1个喷射孔的喷嘴在所述管颈部的内侧旋转并喷射原料液。

8.一种阴极射线管的制造方法,其阴极射线管设有:

分别具有发射排成一列通过水平面内的多个电子束的电子束发生部以及使从该电子束发生部发射的电子束通过的通孔、且设有沿该电子束的行进方向相互间隔设置的多个电极的电子枪;

发生使从该电子枪发射的电子束向靶上的水平方向以及垂直方向偏转的磁场的偏转线圈;

包括容纳所述电子枪的管颈部、形成所述靶的面板部、以及内径从所述管颈部向面板部扩大的玻锥部的外围部;

从所述玻锥部到管颈部的内壁包覆形成的内部导电膜;

与该内部导电膜接触、同时以覆盖所述电子枪局部的状态在所述管颈内壁上包覆形成的、电阻值高于所述内部导电膜的高电阻膜,

其特征在于,具有:以所述管颈部沿大致垂直方向延伸的状态设置所述外围部的设置工序;

供给形成所述高电阻膜用的原料液的供给工序;

以从比垂直于该内壁的方向更向重力方向倾斜的方向把原料液涂敷于沿大致垂直方向延伸的所述管颈部内壁的方式将用所述供给工序供给的原料液向所述内壁喷射、并在该内壁上形成所述高电阻膜的喷射工序;

使在所述设置工序中设置的所述外围部以所述管颈部的管轴为中心旋转的旋转工序。

9.根据权利要求8所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,使原料液的喷出方向比与所述管颈部内壁垂直的方向更向重力方向倾斜。

10.根据权利要求8所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述喷射工序中,通过调节每一单位时间的原料液喷出量而使喷出的原料液与所述管颈部内壁碰撞的方向向重力方向倾斜。

11.根据权利要求8所述的阴极射线管的制造方法,其特征在于,

在所述设置工序中,以所述管颈部的管轴相对垂直方向而倾斜的状态将所述外围部倾斜设置,

在所述旋转工序中,使所述外围部以所述倾斜的管轴为中心旋转。

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