[发明专利]层压薄膜无效
申请号: | 98124384.3 | 申请日: | 1998-09-24 |
公开(公告)号: | CN1217980A | 公开(公告)日: | 1999-06-02 |
发明(设计)人: | 阪谷泰一;児鸟伴树;藤田勉 | 申请(专利权)人: | 住化普拉斯技术株式会社 |
主分类号: | B32B27/30 | 分类号: | B32B27/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨丽琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层压 薄膜 | ||
1.层压薄膜,其特征在于,它由二层或以上构成,其中包括含有熔体流动率为0.1-50g/10分、密度为0.88-0.94g/cm3的乙烯·α-烯烃共聚物(A)作为主成分的层(A层)至少一层,该层压薄膜至少一层含有辐射线遮断剂,并且23℃时的辐射线透过指数为25或以下、密度为不足1g/cm3。
2.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,辐射线遮断剂是红外线吸收剂。
3.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,辐射线遮断剂是含有选自Li、Al、Si、Mg、Ca、Zn的至少一种金属的无机化合物。
4.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,辐射线遮断剂是由下述式(Ⅰ)-(Ⅴ)之一表示的化合物中选择的至少一种:贴P25式(Ⅰ)(式中,M2+是2价的金属离子,An-是n价的阴离子,X、m和n满足下列条件:0<X<0.5,0≤m≤2,1≤n≤3)贴P25式(Ⅱ)(式中,An-是n价的阴离子,m及n满足下列条件:0≤m≤3,1≤n≤3)贴P25式(Ⅲ)(式中,M2+是2价的金属离子,m、X及Y满足下列条件:0≤m<5,0≤X<1,2≤Y≤4)贴P25式Ⅳ(式中,M2+是2价的金属离子,An-是n价的阴离子,m、X及n满足下列条件:0≤m<5,0.01≤X<1,1≤n≤3)贴P25(Ⅴ)(式中,X是碳酸根,M是碱金属或碱土类金属,p是金属M的价数,m、n及k满足下列条件:0.3≤m≤1,0.3≤n≤2,0.5≤k≤4)。
5.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,乙烯·α-烯烃共聚物(A)的以下式(1)定义的组成分布变动系数Cx为0.5以下贴P26式(1)(式中,σ表示用温度上升柱式分馏法,由各温度下溶出成分的溶出量和其支化系数求出的组成分布的标准偏差,SCBave.表示每1000个碳原子的短链支化数的平均值)。
6.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,乙烯·α-烯烃共聚物(A)中的α-烯烃单体单元的含量为0.5-10摩尔%。
7.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,A层是层压薄膜的至少1个面的最表层。
8.权利要求5所述的层压薄膜,其特征在于,组成分布变动系数Cx为0.2-0.5。
9.权利要求7所述的层压薄膜,其特征在于,A层含有相对于乙烯·α-烯烃共聚物100重量份而言,润滑剂0.01-1重量份、防粘剂0.1-20重量份。
10.权利要求1、7或9任一项所述的层压薄膜,其特征在于,A层还含有高压法低密度聚乙烯或乙烯·极性乙烯基单体共聚物,该高压法低密度聚乙烯或乙烯·极性乙烯基单体共聚物相对于共聚物(A)的重量比为40/60或以下。
11.权利要求1所述的层压薄膜,其特征在于,辐射线遮断剂是层压氢氧化物。
12.权利要求1-7、9、10、11任一项所述的层压薄膜,其特征在于,还含有选自光稳定剂、紫外线吸收剂、防雾剂、防结露剂及近红外线遮断剂中的至少1种。
13.权利要求12所述的层压薄膜,其特征在于,光稳定剂、紫外线吸收剂、防雾剂及防结露剂的含量,分别为0.02-5%(重量)、0.01-3%(重量)、0.01-3%(重量)及0.1-4%(重量)。
14.权利要求1或7所述的烯烃系树脂层压薄膜,其特征在于,A层以外的至少1层是乙烯·极性乙烯基单体共聚物层。
15.权利要求10或14所述的层压薄膜,其特征在于,层压薄膜中的极性乙烯基单体单位的含量为8%(重量)或以上。
16.权利要求1-15任一项所述的层压薄膜,其特征在于,还具有防结露性被覆膜。
17.权利要求1-16任一项所述的层压薄膜用于设施园艺。
18.权利要求1-16任一项所述的层压薄膜用作农业用建筑物和/或隧道。
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