[发明专利]光学记录介质和其中所采用的二吡咯甲烷金属螯合物无效

专利信息
申请号: 98124655.9 申请日: 1998-09-17
公开(公告)号: CN1218257A 公开(公告)日: 1999-06-02
发明(设计)人: 三泽伝美;小木曾章;西本泰三;杉本贤一;塚原宇;沟上健二;诧摩启辅;加藤健一;政冈俊裕;熊谷洋二郎 申请(专利权)人: 三井化学株式会社;山本化成株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C07D207/325
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨丽琴
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 记录 介质 其中 采用 吡咯 甲烷 金属 螯合物
【权利要求书】:

1.在底物上具有至少一记录层和一反射层的光学记录介质,其中在该记录层中包含至少一种式(Ⅰ)代表的二吡咯甲烷金属螯合物:其中R1和R9各自独立地为链烯基、芳基或杂芳基;R2-R8各自独立地为氢原子、卤原子,具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基;和M为过渡金属。

2.根据权利要求1的光学记录介质,其中式(1)的R1为-CH=CH-R10,其中R10为氢原子,卤原子,或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基。

3.根据权利要求1的光学记录介质,其中式(1)的R1为具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基或杂芳基,M为铜或钴。

4.根据权利要求3的光学记录介质,其中式(1)中的R1和R3为具有20或更少碳原子的同时取代或未取代的芳基或杂芳基。

5.根据权利要求4的光学记录介质,其中式(1)中的R1,R3和R9为具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基,并且至少一个芳基被卤素取代,或R2,R4-R8中至少一个为卤原子。

6.根据权利要求1-5任一项的光学记录介质,其中记录层进一步包含至少一种式(2)代表的另外的二吡咯甲烷金属螯合物。其中R11-R17各自独立地为氢原子、卤原子、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺酸基,或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基氨基、芳烷基、芳基或杂芳基,R15和R16可相互结合形成可具有一个取代基的芳环;和M’为过渡元素。

7.根据权利要求6的光学记录介质,其中另外的二吡咯甲烷金属螯合物选自由式(3)代表的化合物:其中R19-R25各自独立地为氢原子、卤原子、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺酸基,或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基氨基或芳烷基;R18和R26各自独立地为链烯基或芳基;和M”为铜或钴。

8.根据权利要求1-7任一项的光学记录介质,其中在520-690nm的激光波长下,记录层的折射率和消光系数分别为1.8或更大以及0.04-0.40。

9.根据权利要求1-7任一项的光学记录介质,它可被在520-690nm波长范围内选择的激光束记录和重现。

10.式(4)代表的二吡咯甲烷金属螯合物:其中R27-R35各自独立地为氢原子,卤原子,或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基;和M为过渡元素。

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