[发明专利]光学记录介质和其中所采用的二吡咯甲烷金属螯合物

权利要求书

1．在底物上具有至少一记录层和一反射层的光学记录介质，其中在该记录层中包含至少一种式(Ⅰ)代表的二吡咯甲烷金属螯合物：其中R₁和R₉各自独立地为链烯基、芳基或杂芳基；R₂-R₈各自独立地为氢原子、卤原子，具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基；和M为过渡金属。

2．根据权利要求1的光学记录介质，其中式(1)的R₁为-CH=CH-R₁₀，其中R₁₀为氢原子，卤原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基。

3．根据权利要求1的光学记录介质，其中式(1)的R₁为具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基或杂芳基，M为铜或钴。

4．根据权利要求3的光学记录介质，其中式(1)中的R₁和R₃为具有20或更少碳原子的同时取代或未取代的芳基或杂芳基。

5．根据权利要求4的光学记录介质，其中式(1)中的R₁,R₃和R₉为具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基，并且至少一个芳基被卤素取代，或R₂,R₄-R₈中至少一个为卤原子。

6．根据权利要求1-5任一项的光学记录介质，其中记录层进一步包含至少一种式(2)代表的另外的二吡咯甲烷金属螯合物。其中R₁₁-R₁₇各自独立地为氢原子、卤原子、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基氨基、芳烷基、芳基或杂芳基，R₁₅和R₁₆可相互结合形成可具有一个取代基的芳环；和M’为过渡元素。

7．根据权利要求6的光学记录介质，其中另外的二吡咯甲烷金属螯合物选自由式(3)代表的化合物：其中R₁₉-R₂₅各自独立地为氢原子、卤原子、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基氨基或芳烷基；R₁₈和R₂₆各自独立地为链烯基或芳基；和M”为铜或钴。

8．根据权利要求1-7任一项的光学记录介质，其中在520-690nm的激光波长下，记录层的折射率和消光系数分别为1.8或更大以及0.04-0.40。

9．根据权利要求1-7任一项的光学记录介质，它可被在520-690nm波长范围内选择的激光束记录和重现。

10．式(4)代表的二吡咯甲烷金属螯合物：其中R₂₇-R₃₅各自独立地为氢原子，卤原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或杂芳基；和M为过渡元素。