[发明专利]产生直接绘图数据的方法以及直接绘图的方法和装置无效
申请号: | 98126560.X | 申请日: | 1998-12-25 |
公开(公告)号: | CN1230012A | 公开(公告)日: | 1999-09-29 |
发明(设计)人: | 山田泰久 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 直接 绘图 数据 方法 以及 装置 | ||
1.一种产生用于带电粒子束直接绘图的直接绘图数据的方法,无论包含在一个设计数据中的每个绘图图案的单元结构以及包含在每个绘图图案中的单位图案的种类是怎样的,在带电粒子束可被偏转的一个范围内的绘图图案被排序以准备直接绘图数据。
2.根据权利要求1的产生用于带电粒子束直接绘图的直接绘图数据的方法,当所述设计数据包含的至少一个所述绘图图案超过了带电粒子束可被偏转的所述范围时,无论包含在一个设计数据中的每个绘图图案的单元结构以及包含在每个绘图图案中的单位图案的种类是怎样的,绘图图案在带电粒子束可被偏转的每个范围内排序,以使连续绘制的各绘图图案相互邻近。
3.根据权利要求1的产生用于带电粒子束直接绘图的直接绘图数据的方法,包括以下步骤:将所述设计数据包含的每个所述绘图图案划分为多个单位矩形绘图图案;由此得到的单位矩形图案被赋予地址信息,使得单位矩形图案的绘制从位于所述的带电粒子束可被偏转的范围的一角的绘图图案开始顺序进行;根据地址信息对所述绘图图案排序以准备直接绘图数据。
4.一种带电粒子束直接绘图方法,设计数据包含的绘图图案的绘制使粒子束的偏转量降至最小,无论包含在所述设计数据中的每个绘图图案的单元结构以及包含在每个绘图图案中的单位图案的种类是怎样的。
5.根据权利要求4的带电粒子束直接绘图方法,当由所述设计数据转换成的绘图数据包含不连续的图案使得所述绘图数据需要粒子束的强烈偏转才能绘制时,该需要超过一个预设粒子束偏转量的图案数据被临时存储在一个存储器中,继续绘制仅需要小偏转量的图案。
6.一种带电粒子束直接绘图装置,包括一个存储器,一个地址比较器,用于在数据转换时将一个绘图图案的地址与一个预设地址信息进行比较,一个控制装置,用于将具有超过所述预设地址信息的地址的绘图图案存储进所述存储器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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