[实用新型]一种全息光刻系统无效
| 申请号： | 98228987.1 | 申请日： | 1998-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN2351773Y | 公开（公告）日： | 1999-12-01 |
| 发明（设计）人： | 冯伯儒;张锦;侯德胜;陈芬;王永茹 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03H1/00 | 分类号： | G03H1/00 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,孙媛璞 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 全息 光刻 系统 | ||
1．一种全息光刻系统，包括有激光器、光掩模以及涂有光刻胶的基片，其特征在于：由激光器(1)、扩束准直器(2)、分束器(3)以及减光板(10)、可转动的全反射镜(4)、直角棱镜(6)、涂胶基片(7)(14)以及减光板(11)、光程调节装置(9)和光掩模(8)组成；
a．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经分束器(3)分成两束光：一束光经减光板(10)和可转动的全反射镜(4)到达并通过直角棱镜(6)照射到涂胶基片(7)上，为全息记录的参考光束；另一束光由减光板(11)和光程调节装置(9)从下向上照明光掩模(8)，经光掩模(8)产生衍射，照射到涂胶基片(7)的胶面上，为全息记录的物光束；参考光束与物光束在涂胶基片(7)的光刻胶胶面处产生干涉，得到全息掩模(13)；
b．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经全反射镜(12)、减光板(10)、可转动全反射镜(4)和固定全反射镜(5)从共轭方向入射到达并通过直角棱镜(6)照射到全息掩模(13)上，经全息掩模(13)衍射产生的光信号到达涂胶基片(14)的胶面。
2．如权利要求1所述的一种全息光刻系统，其特征还在于全息记录时涂胶基片(7)的下表面涂有光刻胶，其上表面涂有折射率匹配液，并通过折射率匹配液与直角棱镜(6)的斜面紧密接触。
3．如权利要求1所述的一种全息光刻系统，其特征还在于全息再现时，涂胶基片(14)的上表面涂有光刻胶。
4．如权利要求1所述的一种全息光刻系统，其特征还在于全息再现时全息掩模(13)的上表面涂有折射率匹配液，并通过折射率匹配液与直角棱镜(6)的斜面紧密接触。
5．如权利要求1或2或4所述的一种全息光刻系统，其特征在于折射率匹配液的折射率介于直角棱镜(6)和涂胶基片(7)、(14)材料的折射率之间。
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