[实用新型]光刻机相位光栅离轴照明光学系统无效
| 申请号： | 98229439.5 | 申请日： | 1998-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN2352974Y | 公开（公告）日： | 1999-12-08 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;姚汉民;陈旭南 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,孙媛璞 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 相位 光栅 照明 光学系统 | ||
【权利要求书】：
1．光刻机相位光栅离轴照明光学系统，来自光源(1)的光经集光镜(3)、积分镜(4)和聚光镜(7)等照射到掩模上，被照明的掩模图形通过光刻物镜(10)投影成像于硅片(11)上，其特征在于在聚光镜(7)与掩模板(9)之间是一个与掩模面平行的相位光栅板(8)，其光栅方向与光刻图形方向一致，相位光栅板(8)的上下表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的线形光栅，且上下光栅方向垂直。
2．如权利要求1所述的光刻机相位光栅离轴照明光学系统，其特征在于相位光栅线宽D与要求光刻特征线宽d的关系为：D=(0.7～1.3)d，光栅刻蚀深度h相同，与光刻曝光波长λ的关系为h=(0.5～1.5)λ。
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