[发明专利]用化学反应生成质粒的装置和方法

权利要求书

1、一种装置，其包括：

(a)具有腔室部分的反应室，所述腔室部分具有空腔；

(b)以主轴和副轴为特征的狭长反应物入口，其用于将反应物气流导引到反应室内；及

(c)位于所述空腔内的质粒流，

所述反应室制成与所述狭长反应物入口的形状一致并具有辐射束，该辐射束沿着与所述狭长反应物入口的主轴相应的辐射路径投射穿过所述反应室并横切反应物气流。

2、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该装置还包括：用于将保护气体导引入反应室内的导管。

3、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该装置还包括：一个或更多个惰性气体入口，所述惰性气体入口制成其能形成围绕在至少一部分反应物气流周围的限制惰性气体流，而其中反应室的结构是这样的，即反应物气流和限制惰性气体流占据反应室体积的大部分。

4、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该装置还包括：一对用以将保护气体导引入反应室的狭长导管，每条导管分别设置在狭长反应物入口的任一边上以形成限定反应物气流的保护气体流，而其中反应室的结构是这样的，即反应物气流和保护气体流占据反应室体积的大部分。

5、如权利要求1所述的装置，其特征在于，其中所述反应室包括其内径不大于辐射束直径的两倍并沿辐射路径定向的管子，及用以将辐射束导入反应室内的窗口，其中所述窗口设置在远离反应物气流的管子端部的附近。

6、如权利要求1所述的装置，其特征在于，其中所述反应室还包括沿着辐射路径的反射镜。

7、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该装置还包括用于产生辐射束的激光器。

8、一种装置，其包括：

(a)具有腔室部分的反应室，所述腔室部分具有空腔；

(b)以主轴和副轴为特征的狭长反应物入口，其用于将反应物气流导引到反应室内；及

(c)圆柱形透镜，

所述反应室制成与所述狭长反应物入口的形状一致并具有辐射束，该辐射束沿着与所述狭长反应物入口的主轴相应的辐射路径投射穿过所述圆柱形透镜和所述反应室并横切反应物气流。

9、如权利要求8所述的装置，其特征在于，该装置还包括：用于将保护气体导引入反应室内的导管。

10、如权利要求8所述的装置，其特征在于，该装置还包括：一个或更多个惰性气体入口，所述惰性气体入口制成其能形成围绕在至少一部分反应物气流周围的限制惰性气体流，而其中反应室的结构是这样的，即反应物气流和限制惰性气体流占据反应室体积的大部分。

11、如权利要求8所述的装置，其特征在于，该装置还包括：一对用以将保护气体导引入反应室的狭长导管，每条导管分别设置在狭长反应物入口的任一边上以形成限定反应物气流的保护气体流，而其中反应室的结构是这样的，即反应物气流和保护气体流占据反应室体积的大部分。

12、如权利要求8所述的装置，其特征在于，其中所述反应室包括其内径不大于辐射束直径的两倍并沿辐射路径定向的管子，及用以将辐射束导入反应室内的窗口，其中所述窗口设置在远离反应物气流的管子端部的附近。

13、如权利要求8所述的装置，其特征在于，其中所述反应室还包括沿着辐射路径的反射镜。

14、如权利要求8所述的装置，其特征在于，该装置还包括用于产生辐射束的激光器。

15、一种装置，其包括：

(a)具有腔室部分的反应室，所述腔室部分具有空腔；

(b)以主轴和副轴为特征的狭长反应物入口，其用于将反应物气流导引到反应室内；及

(c)质粒收集系统，

所述反应室制成与所述狭长反应物入口的形状一致并具有辐射束，该辐射束沿着与所述狭长反应物入口的主轴相应的辐射路径投射穿过所述反应室并横切反应物气流。

16、如权利要求15所述的装置，其特征在于，该装置还包括：用于将保护气体导引入反应室内的导管。