[发明专利]气体分析方法及设备

权利要求书

1．一种分析气体中杂质的方法，包括以下步骤：

将含有杂质的气体引入第一气室；

将无杂质的气体引入第二气室；

保持第一和第二气室中的气压相等；

从光辐照装置射出光束；

利用分光装置将光束分开，使第一光束透过第一气室，第二光束透过第二气室；

利用第一测量装置测量透过第一气室的光线强度，利用第二测量装置测量透过第二气室的光线强度；

根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。

2．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，其中由分光装置通过第一气室到达第一测量装置的第一光路和由分光装置通过第二气室到达第二测量装置的第二光路具有相同的光学特性。

3．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，还包括设定由分光装置通过第一气室到达第一测量装置的第一光路的长度使其与由分光装置通过第二气室到达第二测量装置的第二光路的长度相等的步骤。

4．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，其中气体以相同的流速引入第一和第二气室。

5．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，还包括将第一和第二测量装置的测量数据转换为数字信号的步骤。

6．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，还包括将第一和第二测量装置的测量数据中的一个乘以一个与第一和第二光束的光功率比相对应的系数的步骤。

7．根据权利要求1的分析气体中杂质的方法，还包括利用包含在待测波长范围内没有光吸收的气体的净化装置将从光辐照装置到第一和第二测量装置的光路包围起来的步骤。

8．根据权利要求3的分析气体中杂质的方法，还包括通过移动第一和第二测量装置中的一个来调节第一和第二光路的长度的步骤。

9．根据权利要求6的分析气体中杂质的方法，还包括通过移动第一和第二测量装置中的一个来调节第一和第二光路的长度的步骤；和

在移动测量装置之后，根据第一和第二光束的光功率比确定所述系数的步骤。

10．一种分析气体中杂质的分析设备，包括：

光辐照装置；

第一气室，在其中引入含有杂质的待测气体；

第二气室，在其中引入无杂质的气体；

分光装置，用以将光辐照装置射出的光束分开，以便使第一光束透过第一气室，使第二光束透过第二气室；

第一测量装置，用以测量透过第一气室的第一光束的强度；

第二测量装置，用以测量透过第二气室的第二光束的强度；

气体供应装置，用以向第一气室提供含有杂质的气体，向第二气室提供无杂质的气体，同时在第一和第二气室中保持相同的气压；和

确定装置，用以根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。

11．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，其中由分光装置通过第一气室到达第一测量装置的第一光路和由分光装置通过第二气室到达第二测量装置的第二光路具有相同的光学特性。

12．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，其中由分光装置通过第一气室到达第一测量装置的第一光路和由分光装置通过第二气室到达第二测量装置的第二光路具有相同的长度。

13．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，其中气体以相同的流速引入第一和第二气室。

14．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，还包括将第一和第二测量装置的测量数据转换成数字信号的转换装置。

15．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，其中确定装置将第一和第二测量装置的测量数据中的一个乘以一个与第一和第二光束的光功率比相对应的系数。

16．根据权利要求10的分析气体中杂质的分析装置，还包括将从光辐照装置到第一和第二测量装置的光路包围起来的净化装置，该装置包含在待测波长范围内没有光吸收的气体。

17．根据权利要求12的分析气体中杂质的分析装置，还包括移动第一和第二测量装置中的至少一个的移动装置。

18．根据权利要求15的分析气体中杂质的分析装置，还包括移动第一和第二测量装置中的至少一个的移动装置，其中确定装置在移动装置完成移动之后根据第一和第二光束的光功率比确定所述系数。