[发明专利]废水处理装置有效

专利信息
申请号: 98800855.6 申请日: 1998-04-21
公开(公告)号: CN1229401A 公开(公告)日: 1999-09-22
发明(设计)人: 盐田祐介;石井彻;三井纪一郎 申请(专利权)人: 株式会社日本触媒
主分类号: C02F1/74 分类号: C02F1/74;C02F1/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 魏金玺,杨丽琴
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 废水处理 装置
【权利要求书】:

1.一种废水处理装置,其特征是,在固体催化剂和/或固体吸附材料的填充层上设置对该填充层表面的变形或移动具有跟随能力的压层。

2.一种废水处理装置,其特征是,在固体催化剂和/或固体吸附材料的填充层上设置对该填充层表面的变形具有跟随变形能力的透水性压层。

3.权利要求2中记载的装置,其中,用垂直隔墙把上述填充层的上部及透水性压层截断成多个区段。

4.权利要求2或3记载的装置,其中,上述透水性压层的空隙率为20~70%(体积)。

5.权利要求2~4中任何一项记载的装置,其中,上述透水性压层的高度为30~1000mm。

6.权利要求2~5中任何一项记载的装置,其中,上述透水性压层是由多个金属制成的或陶瓷制成的填充物所构成的。

7.权利要求6记载的装置,其中,上述填充物的平均粒径为3~30mm。

8.权利要求3~7中任何一项记载的装置,其中,用上述垂直隔墙截断的各区段的水平方向横断面积为50~5000cm2

9.权利要求3~8中任何一项记载的装置,其中,上述隔墙的垂直方向高度为20~300cm。

10.权利要求1~9中任何一项记载的装置,其中,在上述填充层下设置废水和/或气体的上升流的分散缓和层。

11.权利要求10记载的装置,其中,上述分散缓和层的高度为10~300mm。

12.权利要求10或11记载的装置,其中,上述分散缓和层的空隙率为20~99%(体积)。

13.权利要求10~12中任何一项记载的装置,其中,上述分散缓和层是由多个金属制成的或陶瓷制成的填充物所构成的。

14.权利要求13记载的装置,其中,上述金属或陶瓷填充物的平均粒径为3~30mm。

15.一种废水处理装置,其特征是,在固体催化剂和/或固体吸附材料的填充层下,设置废水和/或气体的上升流的分散缓和层。

16.权利要求15记载的装置,其中,上述分散缓和层的高度为10~300mm。

17.权利要求15或16记载的装置,其中,上述分散缓和层的空隙率为20~99%(体积)。

18.权利要求15~17中任何一项记载的装置,其中,上述分散缓和层是由多个金属制成的或陶瓷制成的填充物所构成的。

19.权利要求18记载的装置,其中,上述金属或陶瓷制成的填充物的平均粒径为3~30mm。

20.权利要求1~19中任何一项记载的装置,用于湿式氧化处理。

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