[发明专利]用于流体接触的方法和装置

权利要求书

1.一种流体接触塔柱、塔盘开口的流体扩散装置，包括：

a.一用于塔盘开口的盖板，所述盖板包含至少一个泄流开口；

b.用于在工作时将盖板定位在塔盘开口上方的装置，借以在所述盖板和塔板之间形成若干个让流体向上流过塔盘开口的流体逸出通道；

c.对至少一个流体开口而言，一泄流偏转构件从一侧到另一侧地跨越流体开口，从而形成至少两个相对的出口，这样就有至少两股独特的泄流相互离开地在盖板中心区域上流动；以及

d.所述每一股独特的泄流在尺度上不同于向上流过所述流体逸出通道的流体流。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置是一个可动的阀组件，用于从下方将所述盖板定位到塔盘开口上方的装置包括至少两个腿部，所述腿部是可滑动的，在塔盘开口内向下延伸，每一所述腿部上设置有至少一个塔盘卡配凸起，用以限制盖板因向上流动的流体的作用而向上移动，从而暴露出所述流体逸出通道。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置是一个固定的阀组件，所述用于从下方将所述盖板定位到塔盘开口上方的装置包括与所述塔板制成一体的腿部，借以形成了若干个固定的流体逸出通道。

4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，当所述阀组件位于一伸出位置时，所述每一股泄流均比向上通过流体逸出通道的流体流更细小。

5.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述每一股泄流均比向上通过固定流体逸出通道的流体流更细小。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述泄流偏转构件在几何尺寸上基本上相同于对应的流体开口，借以限制所述泄流笔直向上流动。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述泄流偏转构件是位于流体开口上方的拱桥形构件。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述拱桥形构件是所述盖板的一部分，它是这样形成的，即，先在盖板上切出成对的平行切缝，然后将每一对切缝之间的盖板部分向上压，从而在其下方形成开口，并在其两侧形成相对的出口。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述盖板上这样设置了两个流出流体开口，即，每个流体开口具有一泄流偏转构件，以使对每个流体开口而言，形成了两股在盖板中心区域上相互离开流动的独特泄流。

10.如权利要求4所述的装置，其特征在于，设置了三个带有偏转构件的流体开口，当从上方观察时，它们围绕盖板的中心布置成V形，拱桥形的流体偏转构件沿着相互间隔的平行路径延伸，因而对各流体开口而言，每一流体偏转构件可形成两股在盖板中心区域上相互离开流动的独特泄流。

11.一种用于提高质量交换系统的效率，并为其提供较大流体反应活性面积的方法，所述方法包括：

设置一阀组件，它具有一盖板和用于将盖板定位在所述质量交换系统的一塔板的塔盘开口上方从而在塔盘开口与塔板之间形成一流体逸出通道的装置；

对阀组件的所述盖板加以开口，从而在所述盖板上形成至少一个泄流开口；

在所述流体开口上方形成一个与所述盖板成一整体的偏转构件，它基本上几何地相同于对应的开口，因而与流过流体逸出通道的流体流相比，可以将通过流体开口的流体扩散成更为细小的流体流，以及

使所述较细小的流体流向所述盖板的中心区域扩散。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述用于将盖板定位在塔盘开口上方的方法是，设置至少两个与盖板一体成形并且可在塔盘开口内滑动的腿部。

13.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述用于将盖板定位在塔盘开口上方的方法是，设置与所述盖板和塔板成一整体的固定的腿部。

14.如权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述盖板上形成有三个布置成V形的流体开口，在每个所述开口之上均设有一流体偏转构件，每个偏转构件均可将一较细小的流体流引向盖板的中心部分。