[发明专利]硬表面清洗组合物

说明书

技术领域

本发明涉及包含非离子表面活性剂和聚合物组分的通用硬表面液体清洗组合物。

本发明的背景技术

用于清洗硬表面的组合物通常包含一种或多种从表面去除污垢时作为其中清洗剂的非离子表面活性剂。非离子表面活性剂的脂肪污垢去污力远好于带电的表面活性剂，因此通常用于硬表面，如厨房工作台、浴室设施、地板和类似物的通用清洗组合物。

已知范围很宽的各种非离子表面活性剂可用于清洗组合物。例如，这些表面活性剂通常包含烷氧基化醇，所述烷氧基化醇可描述为通过亲水性的烯化氧基团与脂族或烷芳族有机憎水化合物缩合反应而制成的化合物。通过简单地调节与任何特定憎水基团缩合的亲水或聚氧化烯基团的长度，可得到一种在亲水部分和憎水部分之间达到所需平衡程度的水溶性化合物。其具体例子包括具有8-22个碳原子的直链或支链脂肪醇与烯化氧的缩合产物，如每摩尔椰子醇具有2-15摩尔氧化乙烯的椰子油氧化乙烯缩合物；其它例子包括其烷基包含6-12个碳原子的每摩尔烷基酚与5-25摩尔氧化乙烯的缩合物。

已知将各组分加入非离子表面活性剂基组合物中，这样沉积到表面上的这些组分可在一步清洗操作中形成耐染污的保护层。我们在已公开申请W0 94/26858公开了如何将某些阴离子聚合物与非离子表面活性剂结合使用，以同时提高起始清洗效果和防止污垢在已用包含这些聚合物的组合物清洗的硬表面上再沉积。据信，聚合物不仅可提高配方的起始去污力，而且还在清洗过程中沉积在表面上，留下既可防止污垢粘附又有助于去污的保护膜。除了阴离子聚合物，已知可通过沉积硅氧烷物质和含氟表面活性剂来达到同一效果。

W0 94/26858公开了如何在酸性pH值下制备能够沉积聚合物保护膜的清洗组合物。如WO 94/26858所述，这些聚合物会由于已有技术产品的pH值提高而失去效果。此外，人们认为酸性产品的难处在于，它们能够破坏某些表面，尤其是用于浴室等瓷釉上。另外优选清洗组合物应该在高pH值下配制，以得到特别良好的脂肪污垢去污力。因此，需要能够在整个pH值范围3-11内配制各种产品，同时保持在上述情况下所描述的去污和省力清洗的效果。

本发明的简要描述

现已确定，在阳离子表面活性剂的存在下，可提高含聚合物和非离子表面活性剂产品的pH值而不损失聚合物的各种效果。据信，这样可克服与低pH值制剂有关的各种困难，但阳离子表面活性剂的加入还具有以下所描述的其它优点。

因此，本发明提供了一种pH值为3-12的硬表面清洗组合物，其中包含：

a)1-30％的非离子表面活性剂，

b)0.005-5％的平均分子量低于1000000的水溶性阴离子聚合物，所述聚合物没有季氮基团，其中聚合物与非离子表面活性剂的比率为0.1∶1或更低，和

c)0.005-5％的阳离子表面活性剂。

本发明的另一方面涉及一种清洗硬表面的方法，该方法包括用pH值为3-12的硬表面清洗组合物处理该表面的步骤，所述组合物包含：

a)1-30％的非离子表面活性剂，

b)0.005-5％的平均分子量低于1000000的水溶性阴离子聚合物，所述聚合物没有季氮基团，其中聚合物与非离子表面活性剂的比率为0.1∶1或更低，和

c)0.005-5％的阳离子表面活性剂。

在本发明不受任何实际理论局限的情况下，据信，由于非离子表面活性剂与聚合物的不带电未离解羧酸基团之间形成氢键配合物，因此在聚合物的存在下，非离子表面活性剂在酸性pH值下的去污力得到提高。随着pH值的升高，聚合物的酸基发生离解，因此不再形成氢键配合物。据信，在本发明所需的阳离子表面活性剂的存在下，负电(即羧酸离解的)聚合物可与阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂相互作用，形成能够将非离子表面活性剂沉积在待清洗的污垢和/或表面上的三组分配合物。尽管并不完全清楚其机理，但这可能是由于带电聚合物与阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合胶束之间的相互作用。

据信，该配合物在表面上的沉积有两个结果。首先，可通过表面活性剂在表面上的浓度，从而提高了起始清洗周期的清洗效果，并降低所述初期清洗所需劳力。另外据信，该配合物或至少其某些部分可在清洗后保留在表面上，因此可防止污垢再粘结到该表面上，从而使得该表面在二次和随后的清洗周期中易于清洗，即，它降低了“二次”清洗所需力。