[发明专利]包括由具有相同晶体结构和成长方向的材料制成的引晶部件和电显示部件的薄膜致动反射镜无效
申请号: | 98806811.7 | 申请日: | 1998-06-26 |
公开(公告)号: | CN1262014A | 公开(公告)日: | 2000-08-02 |
发明(设计)人: | 柳奈英;高润珍 | 申请(专利权)人: | 大宇电子株式会社 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31;G02B26/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 韩宏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 具有 相同 晶体结构 成长 方向 材料 制成 部件 显示 薄膜 反射 | ||
1、一种薄膜致动反射镜阵列,包括:
一个有源阵列,它包括一个基片的、一组连接端子的阵列;和
一组致动结构的阵列,每个致动结构包括:一个作为反射镜和共同偏压电极的上电极、一个电显示部件、一个引晶部件、一个作为信号电极的下电极、一个弹性部件和一个通路连接部。
2、根据权利要求1所述的阵列,其中,引晶部件位于电显示部件的下面。
3、根据权利要求1所述的阵列,其中,用于引晶部件的材料和用于电显示部件的材料具有相同的晶体结构和成长方向。
4、根据权利要求3所述的阵列,其中,引晶部件由PbTiO3制成。
5、根据权利要求3所述的阵列,其中,电显示部件由PZT制成。
6、根据权利要求1所述的阵列,在有源阵列的顶部还连续地包括一个钝化层和一个抗蚀刻剂层。
7、一种用于制造薄膜致动反射镜阵列的方法,包括以下步骤:
准备一个包括基片和连接端子阵列的有源阵列;
形成一个包括空腔阵列的牺牲层;
在包括该空腔的牺牲层的顶部连续地形成一个弹性层和一个下电极层;
在该下电极层顶部形成一个引晶层;
形成一个电显示层;
在电显示层顶部形成一个上电极层,由此而形成一个多层结构;
把该多层结构刻图成为半完成的致动结构的阵列,直到牺牲层暴露为止;
形成一个通路连接部阵列,由此而形成致动结构的阵列;以及,
去掉牺牲层,由此来形成薄膜致动反射镜阵列。
8、根据权利要求7所述的方法,进一步包括下列步骤:在有源阵列的顶部连续地形成一个钝化层和一个抗蚀刻剂层。
9、根据权利要求7所述的方法,其中,通过使用具有与电显示层相同的晶体结构和成长方向的材料的沉积来形成引晶层。
10、根据权利要求9所述的方法,其中,通过使用旋涂法来沉积引晶层。
11、根据权利要求7所述的方法,其中,通过使用溶胶凝胶法来形成电显示层。
12、根据权利要求11所述的方法,其中,溶胶凝胶法包括加入乙酰基丙酮的步骤。
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