[发明专利]图案化的不沾精饰层无效
申请号: | 98806836.2 | 申请日: | 1998-09-03 |
公开(公告)号: | CN1261828A | 公开(公告)日: | 2000-08-02 |
发明(设计)人: | K·巴特扎;J·H·哈米尔顿;A·C·赫泽;T·J·勒克;C·M·雷 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | B05D3/14 | 分类号: | B05D3/14;B05D5/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周慧敏 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 不沾精饰层 | ||
1、一种具有烘烤的氟聚合物不沾涂层的基底,所述的涂层包括可磁化片,部分所述的片在所述基底的平面内定向,而部分所述的片被磁化再定向以在所述涂层中形成在反射光中可观察到的图案,所述的片具有大于所述涂层厚度的最长尺寸。
2、权利要求1的基底,其中所述的基底具有平滑表面。
3、权利要求2的基底,其中所述的涂层通过所述基底上的底层粘结到所述基底上。
4、权利要求1的基底,其中所述的涂层包括中间层和顶层,所述的片通过所述中间层提供到所述涂层中。
5、权利要求1的基底,其中所述的涂层为5-40微米厚,所述的片的最长尺寸为至少44微米。
6、权利要求5的基底,其中所述的片包括具有最长尺寸小于44微米的片。
7、权利要求1的基底,所述的基底为铝、玻璃、陶瓷或者不可磁化的不锈钢。
8、权利要求1的基底,其中所述的涂层还含有最长尺寸小于所述涂层厚度的可磁化片,最长尺寸大于所述涂层厚度的所述的片构成所述片总量的至少40wt%。
9、一种用于在不可磁化的基底上形成图案化的不沾涂层的方法,该方法包括:(a)将在氟聚合物的液态分散体中的可磁化片混合物涂覆于所述基 底上,在基底上形成涂层,(b)在与所述基底间隔的位置处产生扩散磁场,(c)将所述扩散磁场的磁力通过可磁化型模图案耦合至仍是液态的 所述涂层,以在所述涂层中形成相应于所述型模图案的所述片 的图案,以及(d)烘烤所述涂层以固定其中的所述片的图案。
10、权利要求9的方法,其中所述的磁力从形成所述型模图案的板的边缘和/或杆耦合。
11、权利要求10的方法,其中具有所述板边缘的所述型模类似餐刀,并且所述涂层中的所述片的图案是线状图案。
12、权利要求11的方法,其中所述的型模包括多个杆,其中所述的图案包括相应于所述杆的多个点。
13、权利要求9的方法,其中的步骤(a)和(c)同时进行。
14、一种具有烘烤的氟聚合物不沾涂层的基底,所述的涂层包括可磁化片,部分所述的片在所述基底的平面内定向,而部分所述的片被磁化再定向以在所述涂层中形成在反射光中可观察到的图案,所述的涂层具有平均表面粗糙度(Ra)小于1.5微米的平滑表面。
15、权利要求14的基底,其中所述的基底具有平均表面粗糙度(Ra)小于1.5微米的平滑表面。
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