[发明专利]喷射等离子体方法,沉积涂层的设备及制得的涂层

权利要求书

1.一种在基片上形成有机涂层的方法，它包括：

提供在真空中的基片；

提供至少一种气化的有机物质，它包括来自至少一个料源的至少一种组分，在低于约130Pa的真空度下该气化的有机物质能冷凝；

从非所述气化的有机物质料源的至少一个料源提供等离子体；

将所述气化的有机物质和所述等离子体导向基片；以及

在等离子体的存在下，使气化的有机物质冷凝并聚合在所述基片上，形成有机涂层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述基片靠近射频偏压电极放置，从而使基片暴露在射频偏压电位中。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述等离子体是由惰性气体形成的。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述等离子体是由载气和原料气体形成的，所述原料气体选自饱和或不饱和的烃、含氮烃、含氧烃、含卤烃或含硅烃。

5.一种在基片上的有机涂层，它可用如下方法制得：

提供在真空中的基片；

提供至少一种气化的有机物质，它包括来自至少一个料源的至少一种组分，在低于约130Pa的真空度下该气化的有机物质能冷凝；

从非所述至少一个气化的有机物质料源的一个料源提供等离子体；

将所述气化的有机物质和所述等离子体导向基片；

使等离子体与气化的有机物质反应，形成活性有机物质；以及

使基片与所述活性有机物质接触，形成有机涂层。

6.一种在基片上的非金刚石形有机涂层，它包括含有至少一种主要成分的有机物质，所述涂层的密度比涂覆前该有机物质主要成分的密度至少高约50％。

7.如权利要求5或6所述的有机涂层，其特征在于该涂层是硅氧烷涂层或聚合的矿物油。

8.一种用于在基片上形成涂层的喷射等离子体设备，它包括：

用于产生等离子体的阴极设备；

相对阴极设备放置的阳极设备，从而使阴极设备发出的等离子体穿过该阳极设备朝要涂覆的基片移动；以及

用于提供气化的有机物质并且相对阴极设备放置的给油设备，使得气化的有机物质和等离子体在与基片接触前或与基片接触时相互作用。

9.如权利要求8所述的喷射等离子体设备，其特征在于所述空心阴极设备是具有两块相互平行放置的电极板的空心阴极狭缝设备，或者是包括其中具有空心阴极管的第一单元，与该第一单元相连的第二单元以及带有两块平行极板且与第二单元相连的第三单元的空心阴极狭缝设备。

10.一种空心阴极设备，它包括：

具有出口端的圆筒；

围绕该圆筒出口端的磁体；和

具有前缘的管，该管放置在并缩入该圆筒中，使得该管的前缘处于磁体中心线的平面中。