[发明专利]光信息处理设备无效
申请号: | 98809677.3 | 申请日: | 1998-10-01 |
公开(公告)号: | CN1272181A | 公开(公告)日: | 2000-11-01 |
发明(设计)人: | 桑名保宏;本田裕;宫寺信生;高桥亨 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | G02B6/43 | 分类号: | G02B6/43;G02B6/122 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息处理 设备 | ||
技术领域
本发明涉及在集成电路间以光波导连接并由光信号来传递信号的光信息处理设备。
背景技术
为了在许多集成电路间收发信号,当电信号一旦变换为光信号后,作为由光信号进行收发的光互连技术已公开于《Jpn.J.Appl.Phys.》Vol.36(1997)PP.1903-1906中,该文描述了采用基片上的光波导传送电信号的结构。此结构是于LSI基片上装设用于电信号和光信号变换的发光二极管以及光接收元件,再将此LSI基片安装到形成有光波导的基片上。这样,沿光波导传输的光信号可通过光波导内的微反射镜沿垂直方向偏转到基片面上,从光波导出射而为LSI基片上的光接收元件接收。从发光二极管向光波导发射出的光信号则由光波导内的微反射镜偏转到光波导的传输方向,而沿光波导传输。
在上述这种既有的系统中,需要将LSI基片上的发光二极管以及光接收元件相对于光波导基片的光波导中的微反射镜对准,同时将LSI基片与光波导基片固定。
发明概述
本发明的目的在于对具有将电路上的输入/输出信号由光接收/发射元件变换为光信号经光波导传输的结构的光信息处理设备,提供使其中的光波导和光接收/发射元件易于对准的光信号处理设备。
为了实现上述目的,根据本发明的第一实施形式提供了下述的光信息处理设备。此光信息处理设备的特征在于它具有:
配置了光波导的光波导基片;
与上述光波导相对地设于所述光波导基片上的电路基片;
在此光波导的下部设有用来接收沿此光波导传输的光信号的光接收元件;
而上述电路基板的电路则与前述光接收元件连接。
为了实现上述目的,根据本发明的第二实施形式提供了下述的光信息处理设备。此光信息处理设备的特征在于它具有:
配置了光波导的光波导基片;
与上述光波导相对地设于所述光波导基片上的电路基片;
上述电路基片设有用来接收沿此光波导传输的光信号的光接收元件和电路;
而前述光波导基片与电路基片间空隙的至少一部分是用树脂充填。
附图简述
图1为俯视图,示明本发明第一实施形式的光信息处理系统中基片10上的光波导和布线结构。
图2为框图,示明图1的光信息处理系统中设置于基板100、111、112上的LSI的布置。
图3为剖面图,示明图1的光信息处理系统中基片10与基片100等之间的连接结构。
图4为说明图,说明图1的光信息处理系统中沿光波导所传输的光的偏转。
图5为框图,其中的(a)、(b)、(c)分别表明图1的光信息处理系统中基片100、111、112上的布线。
图6为说明图,说明图1的光信息处理系统中的光信号流。
图7为剖面图,概示于图1的光信息处理系统中在基片10上制造光波导的工序。
图8为剖面图,概示于图1的光信息处理系统中在基片10上制造光波导的工序。
图9为剖面图,概示于图1的光信息处理系统中在基片10上制造光波导的工序。
图10为剖面图,概示于图1的光信息处理系统中在基片10上制造光波导的工序。
图11为剖面图,概示于图1的光信息处理系统中在基片10上制造光波导的工序。
图12为图11的B-B′剖面图。
图13为剖面图,示明在第一实施形式中配备有另一种结构的偏转装置的光波导结构。
图14为剖面图,示明在第一实施形式中配备有另一种结构的偏转装置的光波导结构。
图15为剖面图,示明在第一实施形式中配备有另一种结构的偏转装置的光波导结构。
图16为剖面图,示明构成为利用损耗波接收光信号的光波导的结构。
图17为说明图,示明能用作第一与第二实施形式的光信息处理系统中光波导的光波导形状。
图18为说明图,示明能用作第一与第二实施形式的光信息处理系统中光波导的光波导形状。
图19为剖面图,示明基片1和基片100等之间的连接结构的另一种结构例。
图20为剖面图,示明图1的光信息处理系统的光波导上配备了上部包层的结构。
图21为俯视图,示明本发明第二实施形式的光信息处理系统中基片10上的光波导与布线的结构。
图22为框图,示明图21的光信息处理系统中基片100、111、112上所设置的LSI、光接收元件和发光二极管的布置。
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