[发明专利]用于电解提炼或电解沉积提取的电极以及用于制造上述电极的方法无效
申请号: | 98809946.2 | 申请日: | 1998-09-24 |
公开(公告)号: | CN1274396A | 公开(公告)日: | 2000-11-22 |
发明(设计)人: | 汤姆·玛提拉 | 申请(专利权)人: | 奥托库姆普联合股份公司 |
主分类号: | C25C7/02 | 分类号: | C25C7/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电解 提炼 沉积 提取 电极 以及 制造 上述 方法 | ||
1、一种用于电解提炼或电解沉积提取的电极,所述电极(1,21,41)配备有一吊杆(3,23,43),它连接于一板状母板的边缘,除吊杆所连接到的那个边缘以外,所述电极的边缘(4,5,6;24,30,31;44,49,50)均受一边缘条(11,12,13;29,32,33;48,51,52)的保护,该边缘条由某种绝缘材料制成,在上述电极中,该边缘条的至少一部分至少部分地设置在一凹槽(7,25,45)内,该凹槽形成在前述电极边缘中,所述电极的特征在于,至少在一个电极边缘(4,5,6;24,30,31;44,49,50)中有一通过模压形成的凹槽(7,25,45),该凹槽内要填充有由某种绝缘材料制成的电极边缘条(11,12,13;29,32,33;48,51,52),所述凹槽位于电极边缘(4,5,6;24,30,31;44,49,50)处的前端在宽度上基本上等于设置在电极内的凹槽后端(10,28,53)。
2、如权利要求1的电极,其特征在于,至少与电极吊杆相反的边缘(5,24,44)上配备有一用于边缘条的凹槽(7,25,45)。
3、如权利要求1或2的电极,其特征在于,与所述吊杆相反的边缘(5,24,44)和与该电极吊杆相邻的边缘(4,6;32,33;49,50)上均配备有一用于边缘条的凹槽(7,25,45)。
4、如前述权利要求1-3中任何一个的电极,其特征在于,形成在电极边缘中的凹槽(7,25,45)的宽度在位于凹槽端部(4,5,6;10),(24,30,31;28)与(44,49,50;53)之间的部分上具有相同的壁面。
5、如前述权利要求1-3中任何一个的电极,其特征在于,形成在电极边缘中的凹槽(7,25,45)在位于凹槽端部(4,5,6;10),(24,30,31;28)与(44,49,50;53)之间的区域内比较宽。
6、如前述权利要求1-3中任何一个的电极,其特征在于,形成在电极边缘中的凹槽(7,25,45)在位于凹槽端部(4,5,6;10),(24,30,31;28)与(44,49,50;53)之间的区域内比较窄。
7、一种用于制造如权利要求1的电极的方法,其特征在于,至少在形成在与电极吊杆相反的那个边缘(5,24,44)中的凹槽(7,25,45)内,有一被至少部分设置在该凹槽内的通过模压形成的边缘条(12,29,48)。
8、如权利要求7的方法,其特征在于,在与电极吊杆相邻的边缘(4,6;30,31;49,50)及与电极吊杆相反的边缘(5,24,44)内均有一通过模压形成的边缘条(11,12,13;29,32,33;48,51,52),该边缘条由某种绝缘材料制成并被至少部分地放置在前述凹槽内。
9、一种用于制造如权利要求1的电极的方法,其特征在于,至少在形成在与电极吊杆相反的边缘(5,24,44)中的凹槽(7,25,45)内形成有一边缘条(12,29,48),它由某种绝缘材料制成并通过将一基本上为楔形的边缘条安装到凹槽内而至少部分地被放置在该凹槽内,并且凹槽壁面(8,9;26,27;46,47)被压向所述边缘条,以使得该边缘条固定在凹槽内的适当位置处。
10、如权利要求9的方法,其特征在于,在与电极吊杆相邻的边缘(4,6;30,31;49,50)及与电极吊杆相反的边缘(5,24,44)内均形成有一边缘条(11,12,13;29,32,33;48,51,52),该边缘条由某种绝缘材料制成并通过将一基本上为楔形的边缘条安装到凹槽内而至少部分地被放置在该凹槽(7,25,45)内,并且凹槽壁面(8,9;26,27;46,47)被压向所述边缘条,以使得该边缘条(11,12,13;29,32,33;48,51,52)固定在凹槽内的适当位置处。
11、如权利要求7-10中任何一个的方法,其特征在于,在与电极吊杆相邻的边缘(4,6;30,31;49,50)及与电极吊杆相反的边缘(5,24,44)内均提供一由某种绝缘材料构成的基本上不间断的保护。
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