[发明专利]有源像素传感器中的量子效率的改进无效

专利信息
申请号: 98811879.3 申请日: 1998-10-05
公开(公告)号: CN1281612A 公开(公告)日: 2001-01-24
发明(设计)人: E·福瑟姆 申请(专利权)人: 光彼特公司
主分类号: H04N3/14 分类号: H04N3/14;H01L27/148
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 陈霁,张志醒
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有源 像素 传感器 中的 量子 效率 改进
【权利要求书】:

1.一种图像传感器,包括:

多个像素区域,每个像素区域包括电路区域和光电二极管区域,所述光电二极管区域包括在其中的光电二极管元件,所述光电二极管元件占据的空间小于由电路区域剩下的敞开空间的总量。

2.如权利要求1所述的传感器,其中所述光电二极管在所述基片上位于这样的位置,使得所述基片包括在所述基片内的基本上离开所述光电二极管等距离的多个收集区域。

3.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管呈从像素的一个边沿向着像素的中心延伸的棒形。

4.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管的形状为环形的一部分。

5.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管沿着所述像素的对角线延伸。

6.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管呈一个环形的形状,所述环的中心是所述像素的中心。

7.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管呈H形。

8.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管呈X形。

9.一种图像传感器,包括:

多个像素区域,每个像素区域被形成在可以接收入射光并和所述入射光相互作用从而形成被改变的可以扩散的基片部分的那种类型的基片上,每个所述像素区域包括电路区域和光电二极管区域,所述光电二极管区域包括在其中的光电二极管元件,所述光电二极管元件具有被优化的形状,以便获得所述改变的基片部分的扩散,而不是直接获得光。

10.如权利要求9所述的传感器,其中所述光电二极管元件占据的空间小于由电路区域剩下的敞开的空间的总量。

11.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管在所述基片上位于这样的位置,使得所述基片包括在所述基片内的基本上离开所述光电二极管等距离的多个收集区域。

12.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管呈从像素的一个边沿向着像素的中心延伸的棒形。

13.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管的形状是环形的一部分。

14.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管沿着所述像素的对角线延伸。

15.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管呈一个环形的形状,所述环的中心是所述像素的中心。

16.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管呈H形。

17.如权利要求10所述的传感器,其中所述光电二极管呈X形。

18.一种图像传感器,包括:

多个像素区域,每个像素区域被形成在可以接收入射光的基片上,每个所述像素区域包括电路区域和光电二极管区域,所述光电二极管区域包括在其中由不透明的用于阻断直接达到所述光电二极管元件上的光的材料制成的光电二极管元件。

19.如权利要求18所述的传感器,其中所述不透明材料是多酸。

20.如权利要求18所述的传感器,其中所述光电二极管元件占据的空间小于由电路区域剩下的敞开的空间的总量。

21.如权利要求18所述的传感器,其中所述光电二极管在所述基片上位于这样的位置,使得所述基片包括在所述基片内的基本上离开所述光电二极管等距离的多个收集区域。

22.如权利要求21所述的传感器,其中所述光电二极管呈从像素的一个边沿向着像素的中心延伸的棒形。

23.如权利要求21所述的传感器,其中所述光电二极管的形状为一部分的环形。

24.如权利要求21所述的传感器,其中所述光电二极管沿着所述像素的对角线延伸。

25.如权利要求21所述的传感器,其中所述光电二极管呈一个环形的形状,所述环的中心是所述像素的中心。

26.如权利要求21所述的传感器,其中所述光电二极管呈H形。

27.如权利要求2所述的传感器,其中所述光电二极管呈X形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光彼特公司,未经光彼特公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98811879.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top