[发明专利]光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法

权利要求书

1．一种光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，所述方法包括下列工序：

提供一个活性基体，该活性基体具有：ⅰ)一块由金属氧化物半导体制成的，用于开关操作的基片，和ⅱ)包括一个从金属氧化物晶体管的漏极延长出来的漏极垫的第一个金属层；

在所述活性基体上，利用低压化学气相沉积法形成第一个牺牲层；

对所述第一个牺牲层上构图，使具有漏极垫的所述活性基体的一部分露出后，形成具有一个支撑部分和一个支承层的支承装置；

在所述支承装置上形成一个具有一个底部电极，一个活性层和一个顶部电极的致动器；

在所述致动器上形成第二个牺牲层；

对所述第二个牺牲层构图，使所述顶部电极的一部分露出；

在所述顶部电极的露出部分和所述第二个牺牲层上，形成一根杆柱和一个反光装置；

除去所述第二个牺牲层；和

除去所述第一个牺牲层。

2．如权利要求1所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，该提供所述活性基体的工序还包括：

在所述基片和所述第一个金属层上，形成第一个钝化层；

在所述第一个钝化层上形成第二个金属层；

在所述第二个金属层上形成第二个钝化层；和

在所述第二个钝化层上形成一个腐蚀阻止层。

3．如权利要求1所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，形成所述第一个牺牲层的工序是通过使用非晶体硅来进行的；而形成所述第二个牺牲层的工序是通过使用非晶体硅来进行的。

4．如权利要求3所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，清除所述第二个牺牲层和清除所述第一个牺牲层的工序，是通过使用氟化溴蒸气或氟化氙蒸气来进行的。

5．如权利要求1所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，形成所述第一个牺牲层的工序是通过使用多晶硅来进行的，而形成所述第二个牺牲层的工序也是通过使用多晶硅来进行的。

6．如权利要求5所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，形成所述第一个牺牲层的工序还包括，利用化学机械抛光法平面化所述第一个牺牲层表面；而形成所述第二个牺牲层的工序还包括，利用化学机械抛光法平面化所述第二个牺牲层表面。

7．如权利要求5所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，除去所述第二个牺牲层和除去所述第一个牺牲层的工序，是利用氟化溴蒸气或氟化氙蒸气来进行的。

8．如权利要求1所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，形成所述第二个牺牲层的工序是利用具有流动性的材料，和旋转涂层法来进行的。

9．如权利要求8所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，形成所述第二个牺牲层的工序，是通过使用从由光致抗蚀剂、旋涂玻璃(SOG)和旋涂聚合物(SOP)组成的组中选择出的一种材料来进行的。

10．如权利要求8所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，去除所述第二个牺牲层的工序是通过使用氧的等离子体来进行的；而去除所述第一个牺牲层的工序，是通过利用氟化溴蒸气或氟化氙蒸气来进行的。

11．如权利要求1所述的光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法，其中，去除所述第二个牺牲层和去除所述第一个牺牲层的工序是同时进行的。