[发明专利]一种在表面上印刻分子级图形的方法

权利要求书

1、一种在固体表面形成分子级图形的方法，包括：

将一种反应性固体的表面暴露于一种有效的印刻试剂中，在所述的表面的至少一部分上形成吸附分子的图形；以及

通过施加有效的激发能引发所述吸附分子在所述的表面邻近其吸附部位定位地发生化学反应将图形印刻在所述的表面上。

2、如权利要求1的方法，其中，所述的反应性固体选自由结晶固体和无定型固体所组成的组。

3、如权利要求1或2的方法，其中，所述的施加有效的激发能的步骤是辐照所述的吸附分子，辐照的能量足以引发所述吸附分子与所述表面的化学反应。

4、如权利要求1或2的方法，其中，所述的施加有效的激发能的步骤包括通过辐照激发所述的反应性固体中的电子，辐照的能量足以引发所述吸附分子与所述表面化学反应。

5、如权利要求1或2的方法，其中，所述的施加有效的激发能的步骤包括用粒子轰击所述的吸附剂，粒子的能量足以引发所述吸附分子与所述表面的化学反应。

6、如权利要求5的方法，其中，所述的粒子是电子束。

7、如权利要求5的方法，其中，所述的粒子是正离子或负离子束。

8、如权利要求1或2的方法，其中，所述的印刻试剂是气态的。

9、如权利要求1或2的方法，其中，所述的印刻试剂是液态的。

10、如权利要求1，2，3，4，5或6的方法，其中，所述的反应性固体和印刻试剂的选择基于：施加有效的激发能的步骤是通过施加能够影响所述吸附分子与所述表面之间的化学附着的辐照来完成的。

11、如权利要求1，2，3，4，5或6的方法，其中，所述的反应性固体和印刻试剂的选择基于：施加有效的激发能的步骤是通过施加能够影响所述吸附分子的分子或原子片断与表面之间的化学附着的辐照来完成的。

12、如权利要求1，2，3，4，5或6的方法，其中，所述的施加有效的激发能的步骤是通过用其能量足以引发所述吸附分子与所述表面的化学反应的粒子同时轰击所述吸附分子和反应性表面，并且辅助对所述基板的加热。

13、如权利要求1，2，3，4，5或6的方法，其中，印刻的图形是一种带缺陷表面的图形，它是通过选择所述的反应性固体和预选的分子，使得所述的施加有效的激发能引发吸附分子与所述的表面的化学反应，形成可挥发的产物，或者可以加热挥发的产物，由此生成了所述的带缺陷表面图形。

14、如权利要求1，2，3，4，5或6的方法，其中，反应性固体和印刻试剂的选择基于，通过辐照相所述的印刻表面施加有效的激发能的另一个步骤，使所述的表面发射出原子，由此生成代表所述印刻图形的带缺陷表面图形。

15、如权利要求2的方法，其中，所述的晶态固体是半导体。

16、如权利要求15的方法，其中，所述的半导体是从硅、砷化镓、和磷化铟中选取的。

17、如权利要求1，2，3，4，5，6或15的方法，其中，所述的印刻试剂选自从卤化物，氢化物，氧化物，金属有机物，和Si、Ga、As和In的化合物中选取的。

18、如权利要求1的方法，其中，反应性固体和印刻试剂的选择基于，吸附分子图形是因所述吸附分子和所述表面之间的力而形成的。

19、如权利要求1的方法，其中，选择反应性固体和印刻试剂以形成自组合的单层，其中，该吸附分子图形是因所述吸附分子和所述表面之间的力而形成的。

20、一种在固体表面形成分子级图形的方法，包括：

将反应性晶态固体的表面暴露于一种有效的印刻试剂中，以在所述表面的至少一部分上形成吸附分子的图形；以及

通过施加有效的激发能引发所述吸附分子在所述的表面邻近其吸附部位定位地发生化学反应将图形印刻在所述的表面上。

21、如权利要求20的方法，其中，所述的施加有效的激发能的步骤是辐照所述的吸附分子，辐照的能量足以引发所述吸附分子与所述表面化学反应。