[发明专利]氧清除剂组合物

权利要求书

1．氧清除组合物，包含一种在高表面积的多孔粒状材料中浸渍的含水分可触发的氧清除剂的载体。

2．权利要求1的组合物，其中所述氧清除剂选自碱金属或碱土金属的亚硫酸盐、亚硫酸氢盐、连二硫酸盐、抗坏血酸化合物或酚类化合物。

3．权利要求1的组合物，其中所述氧清除剂为选自D-抗坏血酸、L-抗坏血酸、其碱金属盐、其碱土金属盐、其脂肪酸衍生物以及它们的混合物的抗坏血酸化合物。

4．权利要求3的组合物，其中所述抗坏血酸化合物为抗坏血酸钠。

5．权利要求3的组合物，其中所述氧清除剂还包含至少一种过渡金属化合物，其中所述金属选自钪、钛、钒、铬、铁、钴、镍、铜、锌、锡或它们的混合物。

6．权利要求4的组合物，其中所述氧清除剂还包含至少一种过渡金属化合物，其中所述金属选自钪、钛、钒、铬、铁、钴、镍、铜、锌、锡或它们的混合物。

7．权利要求5的组合物，其中所述过渡金属为铜。

8．权利要求6的组合物，其中所述过渡金属为铜

9．权利要求1的组合物，其中所述氧清除剂选自碱金属或碱土金属的亚硫酸盐、亚硫酸氢盐或连二硫酸盐。

10．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述多孔粒状材料选自基本上由以下成分组成的水不溶性材料：金属氧化物、硫化物或氢氧化物；金属碳酸盐；矿物质；合成沸石和天然沸石；金属硅酸盐；氧化铝；二氧化硅凝胶；磷酸铝；煅制水滑石；和它们的混合物。

11．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述多孔粒状材料选自硅、铝或钛的氧化物；硅、铝或钛的氢氧化物；天然沸石；合成沸石；水滑石和它们的混合物。

12．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述载体包含一种聚合物基质，在所述聚合物基质中分布有至少约0.1％(重量)的所述浸渍的多孔材料。

13．权利要求10的组合物，其中所述载体包含一种聚合物基质，在所述聚合物基质中分布有至少约0.1％(重量)的所述浸渍的多孔材料。

14．权利要求12的组合物，其中所述聚合物基质为选自以下成分的热塑性树脂：聚乙烯、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯均聚物、氯乙烯共聚物和它们的掺混料。

15．权利要求12的组合物，其中所述聚合物基质包含选自以下成分的聚乙烯：高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、极低密度聚乙烯、超低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯、它们的掺混料以及所述聚乙烯与其它聚合物的掺混料。

16．权利要求12的组合物，其中所述聚合物基质包含至少一种聚乙烯和至少一种乙烯/乙酸乙烯酯共聚物的混合物。

17．权利要求12的组合物，其中所述聚合物基质包含一种选自以下成分的聚合物：聚烯烃、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、丁基橡胶、苯乙烯丁二烯橡胶、苯乙烯/丁二烯/苯乙烯嵌段共聚物、异戊二烯、苯乙烯/异戊二烯/苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯/乙烯/丁烯/苯乙烯嵌段共聚物和它们的混合物。

18．权利要求12的组合物，其中所述聚合物材料选自环氧化物、酚类化合物、聚氨酯、聚氯乙烯均聚物、聚氯乙烯共聚物和它们的混合物。

19．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述载体包含具有至少一层其中所述浸渍的粒状材料为二氧化硅的薄膜。

20．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述载体包含其空隙中含有所述浸渍的粒状材料的垫。

21．权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的组合物，其中所述载体包括其中含有所述浸渍的粒状材料的多孔小袋或小香囊。

22．一种制品，它为具有适于含有氧敏感材料的内部腔的容器，所述容器具有作为所述容器一部分并暴露于所述容器内部的权利要求1、2、3、4、5、6、7、8或9的固体氧清除组合物。