[发明专利]用于防反射表面的防污涂层及其制备方法无效
申请号: | 98813320.2 | 申请日: | 1998-06-11 |
公开(公告)号: | CN1284105A | 公开(公告)日: | 2001-02-14 |
发明(设计)人: | J·M·英维;M·J·佩莱里特 | 申请(专利权)人: | 美国3M公司 |
主分类号: | C09D4/00 | 分类号: | C09D4/00;C09D183/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 沙永生 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 反射 表面 防污 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种防反射制品,这种制品包含具有防反射表面和至少部分固化在该表面上的防污涂层的基底,所述的防污涂层含有通过涂布含数均分子量至少为1000并用如下通式(Ⅰ)表示的至少一种氟化硅烷的涂料组合物制得的氟化硅氧烷:Rf-[-R1-SiY3-xR2x]y, (Ⅰ)式中Rf是单价或二价多氟聚醚基,R1是二价亚烷基、亚芳基、或它们的结合;R2是低级烷基;Y是卤素、低级烷氧基或低级酰氧基;x是0或1;y是1或2。
2.如权利要求1所述的防反射制品,其特征在于所述的防反射表面包括含一种或多种金属氧化物的金属氧化物膜。
3.如权利要求2所述的防反射制品,其特征在于所述的防反射表面包括真空淀积的金属氧化物膜。
4.如权利要求1-3中任一项所述的防反射制品,其特征在于所述防污涂层的厚度至少为15埃,但不超过150埃。
5.如权利要求1-4中任一项所述的防反射制品,其特征在于第一表面的防反射率与没有防污涂层的相同制品的防反射率相差小于0.5百分单位。
6.如权利要求1-5中任一项所述的防反射制品,其特征在于所述的涂层通过涂布含至少一种Rf为全氟聚醚基的氟化硅烷的涂料组合物制得。
7.如权利要求1-6中任一项所述的防反射制品,其特征在于所述的防污涂料组合物还含有烷基全氟烷基醚。
8.一种防污涂料组合物,它含有数均分子量至少为1000的至少一种氟化硅烷和烷基全氟烷基醚,所述的氟化硅烷用如下通式表示:
Rf-[-R1-SiY3-xR2x]y, (Ⅰ)式中Rf是单价或二价多氟聚醚基,R1是二价亚烷基、亚芳基、或它们的结合;R2是低级烷基;Y是卤素、低级烷氧基或低级酰氧基;x是0或1;y是1或2。
9.如权利要求8所述的防污组合物,其特征在于Rf的近似平均结构选自-CF2O(CF2O)m(C2F4O)pCF2-、-CF(CF3)O(CF(CF3)CF2O)p(CF3)-、-CF2O(C2F4O)pCF2-和-(CF2)3O(C4F8O)p(CF2)3-,其中m的平均值为0-50,p的平均值为0-50,条件是m和p在同一基团中都不能同时为零。
10.一种在具有防反射表面的基底上涂布防污涂层的方法,该方法包括用含数均分子量至少为1000且用如下通式表示的至少一种氟化硅烷的涂料组合物处理防反射表面,Rf-[-R1-SiY3-xR2x]y, (Ⅰ)式中Rf是单价或二价多氟聚醚基,R1是二价亚烷基、亚芳基、或它们的结合;R2是低级烷基;Y是卤素、低级烷氧基或低级酰氧基;x是0或1;y是1或2。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于所述的涂料组合物还含有选自氟化烷烃、烷基全氟烷基醚或其混合物的非氯化溶剂。
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