[发明专利]用来对碟片进行热处理的方法和装置无效
申请号: | 98813820.4 | 申请日: | 1998-02-27 |
公开(公告)号: | CN1284908A | 公开(公告)日: | 2001-02-21 |
发明(设计)人: | L·G·M·白令;R·T·N·卡尔松;C·L·埃里克松;L·G·埃里克松;P·O·厄曼 | 申请(专利权)人: | 奥德梅国际有限公司 |
主分类号: | B29C35/08 | 分类号: | B29C35/08;G11B7/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 闻卿 |
地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用来 碟片 进行 热处理 方法 装置 | ||
1.一种用来对碟片进行热处理的方法,此法是先将碟片放置在一载体上,然后对所述碟片进行照射,其特征在于,在照射过程中,将所述载体保持在一所需温度上。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述载体的所需温度大约是所述碟片在被放置在所述载体上之前的温度。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述碟片包括两个碟片构件和位于所述两碟片构件之间的粘结层,藉助紫外光照射使粘结层固化。
4.如前述任一权利要求所述的方法,其特征在于,藉助真空将所述碟片保持在所述载体上。
5.如前述任一权利要求所述的方法,其特征在于,在对所述碟片进行照射之后,将所述碟片放置在一第二载体上,从而可以从所述载体的两侧对所述碟片进行照射。
6.一种根据前述权利要求之一所述方法对一碟片进行热处理的装置,所述装置包括至少一个载体和用来对所述载体进行照射的装置,其特征在于,所述载体包括至少一个液体沟槽,而所述装置包括用来藉助使所述液体流过所述沟槽来对所述载体的温度进行控制的控制装置。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述载体还设置有至少一个真空槽。
8.如前述任一权利要求所述的装置,其特征在于,所述装置还设置有一紫外光源。
9.如前述任一权利要求所述的装置,其特征在于,所述装置还设置有一碟片定中心机构。
10.如前述任一权利要求所述的装置,其特征在于,所述载体是可以旋转的。
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