[发明专利]光学记录介质的制造方法

权利要求书

1．一种光学记录介质的制造方法，所述光学记录介质包括具有第一基片、第一信息储存层、第一露出表面和第一内表面的第一部件，具有第二基片、第二露出表面、第二内表面和任选的第二信息储存层的第二部件，以及在所述第一内表面和第二内表面之间的一层任选透明的压敏粘合剂层，所述方法包括：

a)将所述压敏粘合剂层粘附在两片部件中的一片的内表面上，和

b)用一种基本无应力并且平行的方式将另一片部件的内表面粘附在该粘合剂层露出的表面上，

控制在上述步骤1和／或2过程中，分别在第一内表面与压敏粘合剂层和／或第二内表面与压敏粘合剂层的界面上形成的气泡大小和气泡的消失速度，从而在小于30分钟内除去气泡。

2．如权利要求1所述的方法，其特征在于对步骤2制得的组件进行层压。

3．如权利要求1所述的方法，其特征在于使用至少在一个表面上具有平均表面粗糙度Rz约为2-12微米表面纹理的压敏粘合剂层来控制气泡的大小和溶解速度。

4．如权利要求1所述的方法，其特征在于在含有一种或多种在压敏粘合剂层中具有高溶解速度、和／或能高速扩散通过压敏粘合剂层和／或部件1和2中的一片或两片的气体的气氛中进行步骤1和／或步骤2来控制气泡的消失速度。

5．如权利要求4所述的方法，其特征在于所述气氛包括氦和／或氢。

6．如权利要求1所述的方法，其特征在于使步骤2制得的组件经受静压来控制溶解速度。

7．如权利要求1所述的方法，其特征在于气泡的最大横向尺寸小于500微米。

8．如权利要求1所述的方法，其特征在于压敏粘合剂层的平均厚度为10-100微米，粘合剂层侧面尺寸的平均值的标准偏差不超过±4微米。

9．如权利要求1所述的方法，其特征在于压敏粘合剂层的折射率至少为1．45。

10．一种光学记录介质的制造方法，所述光学记录介质包括具有第一基片、第一信息储存层、第一露出表面和第一内表面的第一部件，具有第二基片、第二露出表面、第二内表面和任选的第二信息储存层的第二部件，以及在所述第一内表面和第二内表面之间的一层任选透明的压敏粘合剂层，所述方法包括：

a)将第一压敏粘合剂亚层和第二压敏粘合剂亚层分别粘附在第一部件和第二部件的内表面上，和

b)用一种基本无应力并且平行的方式将两层压敏粘合剂亚层的露出表面相互粘附在一起，

控制在上述步骤1和／或2过程中，在第一内表面和／或第二内表面分别与各自的压敏粘合剂亚层的界面上和／或在两层压敏粘合剂亚层之间的界面上形成的气泡大小和气泡的消失速度，从而在小于30分钟内除去气泡。

11．如权利要求10所述的方法，其特征在于对步骤2制得的组件进行层压。

12．如权利要求10所述的方法，其特征在于使用至少一层在一个表面上具有平均表面粗糙度R_z约为2-12微米表面纹理的压敏粘合剂亚层来控制气泡的大小和／或消失速度。

13．如权利要求10所述的方法，其特征在于在含有一种或多种在压敏粘合剂层中具有高溶解速度、和／或能高速扩散通过压敏粘合剂层的气体的气氛中进行步骤1和／或步骤2来控制气泡的消失速度。

14．如权利要求13所述的方法，其特征在于所述气氛包括氦和／或氢。

15．如权利要求10所述的方法，其特征在于使步骤2制得的组件经受静压来控制气泡的消失速度。

16．如权利要求10所述的方法，其特征在于气泡的最大横向尺寸小于500微米。

17．如权利要求10所述的方法，其特征在于在步骤2将两层压敏粘合剂亚层的露出表面粘合在一起制得的压敏粘合剂层的平均厚度为10-100微米，粘合剂层侧面尺寸的平均值的标准偏差不超过±4微米。

18．如权利要求10所述的方法，其特征在于压敏粘合剂亚层包括相同的压敏粘合剂材料，折射率至少为1．45，较好为1．47。

19．如权利要求1所述的方法，其特征在于所述光学记录介质是数字通用光盘。

20．如权利要求10所述的方法，其特征在于所述光学记录介质是数字通用光盘。