[发明专利]具有抑制不需要模式的共平面微波电路无效

专利信息
申请号: 98814132.9 申请日: 1998-04-24
公开(公告)号: CN1299524A 公开(公告)日: 2001-06-13
发明(设计)人: M·V·福尔克纳;E·B·斯通哈姆;C·A·莫文克尔;M·J·沃格汉 申请(专利权)人: 恩德威夫公司
主分类号: H01P1/162 分类号: H01P1/162
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 罗朋,王忠忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 抑制 不需要 模式 平面 微波 电路
【权利要求书】:

1.一种用于抑制寄生模式的共平面电路结构,包括:

一个具有平面表面(204)的绝缘基板(202);

一个传输线,至少包括安装在基板表面上的分离的第一和第二共平面导体(206,210),第一和第二导体间隔一个第一缝隙(214);

位于基板表面上的第一电阻性膜(220),与第一导体共平面和相邻地沿着其长度延伸,电阻性膜与第一导体耦合以衰减寄生模式。

2.如权利要求1所述的共平面电路结构,还包括位于基板表面上并与第二导体(206)共平面和相邻地沿着其长度延伸的第二电阻性膜(220’),第一和第二电阻性膜(220,220’)与第一和第二导体(206,210)耦合以衰减寄生模式。

3.如权利要求2所述的共平面电路结构,其特征在于第一导体(206)具有第一信号导通沿(208),第二导体(210)具有第二信号导通沿(212),其与第一导通沿(208)间隔第一缝隙(214),第一和第二导体(206,210)分别在远离第一缝隙(214)的相对方向上延伸,第二导体(210)定义了一个与第二导通沿(212)间隔的第三导通沿(216),第一导体(206)定义了一个与第一导通沿(208)分离的第四导通沿(216’),第一电阻性膜(220)定义了与第三导通沿(216)耦合的第一电阻沿(222),第二电阻性膜(220’)定义了与第四导通沿(216’)耦合的第二电阻沿(225),从而通过耦合电阻性膜(220,220’)和导体(206,210)来衰减寄生模式。

4.如权利要求3所述的共平面电路结构,还包括一个至少具有两个安装在基板表面(204)上的端子(306a,306b,306c,306d)的倒装片有源器件(306),并且第一和第二导体(206,210)中的至少一个与倒装片器件的至少一个端子连接。

5.如权利要求4所述的共平面电路结构,还包括位于基板表面上的第三共平面导体(314d),第三导体与第二共平面电阻性膜(330,332)耦合;安装在第三导体(314d)上的第二倒装片有源器件(326)连接;以及其中一个电阻性膜(332)定义了一个具有第一端和第二端以及二端之间长度的去耦合槽(346),该槽插在一个第一器件连接和第二倒装片有源器件连接之间,第一端(346a)横向位于第一和第二连接的一侧,第二端(346b)横向位于第一和第二连接的另一侧,该槽足够长以去除第一和第二连接中不需要的信号。

6.如权利要求3所述的共平面电路结构,还包括一个第三共平面导体(206),其与第一和第二共平面导体(210,230)分离并位于它们之间,从而形成了一个共平面波导传输线。

7.如权利要求3所述的共平面电路结构,其特征在于第一和第二导体(206和210)以及第一和第二电阻性膜(220,220’)的两个相对端之间具有一个共同的长度Lr;第一电阻性膜(220)具有一个与第一电阻沿(222’)间隔至少一个距离Wr的第三电阻沿(224);以及第二电阻性膜(220’)具有一个与第二电阻沿(225)间隔至少一个距离Wr’的第四电阻沿(224’),并且选择宽度Wr和Wr’来衰减寄生模式。

8.如权利要求3所述的共平面电路结构,其特征在于第一电阻沿(222)和第三导通沿(216)间隔一个具有预定宽度的第二缝隙(223)。

9.如权利要求3所述的的共平面电路结构,还包括与第一电阻沿(222)间隔一个预定宽度的第一电阻性膜(220)的第三电阻沿(224)。

10.如权利要求9所述的共平面电路结构,还包括与第二电阻沿(225)间隔一个相同预定宽度的第二电阻性膜(220’)的第四电阻沿(224’)。

11.如权利要求9所述的共平面电路结构,其特征在于第一电阻性膜(220)的第三电阻沿(224)与第一电阻沿(222)间隔大约λx/4或更大距离,其中λx为寄生模式的波长。

12.如权利要求3所述的共平面电路结构,其特征在于第二导通沿(212)和第三导通沿(216)之间的间距足够大,使得波长为λs的共平面模式信号能够沿着第一导通沿(208)和第二导通沿(212)传输,而第三导通沿(216)上基本为零电流。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩德威夫公司,未经恩德威夫公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98814132.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top