[发明专利]工件传送方法及系统

权利要求书

1．一种工件传送方法，其特征在于，它包括如下步骤：

将排成直线的多个处理单元(103)的处理时间设定为随这些处理单元远离设置在处理单元一端的储存架(102)而被缩短，处理单元在彼此不同的预定处理条件下处理工件；

在储存架中存放多个不同的处理条件的工件(101)；

从存放在储存架中的工件中选择一个使用距储存架最远的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元；以及

依次选择比用于最后的被传送工件的处理单元更靠近储存架的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元。

2．按照权利要求1所述的方法，其特征在于还包括如下步骤：

传送存放在储存架中的工件中使用距储存架最近的处理单元的工件后，从存放在储存架中剩下的工件中选择一个使用距储存架最远的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元；以及

依次选择比用于最后的被传送工件的处理单元更靠近储存架的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元。

3．按照权利要求1所述的方法，其特征在于还包括如下步骤：

当在储存架中的工件中没有使用唯一的比用于最后的被传送工件的处理单元更靠近储存架的处理单元的工件时，选择一个使用距储存架较近的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元。

4．按照权利要求1所述的方法，其特征在于该方法还包括如下步骤：

形成一条件决定表，在其中设定了最后的被传送工件和下一个被选择的工件之间的关系；以及

每当从储存架中传送一工件时，更新最后的被传送工件，并且依次选择工件的步骤包括参照使用更新的工件的条件决定表(117)来决定下一个被传送的工件的步骤。

5．按照权利要求1所述的方法，其特征在于设定处理时间的步骤包括对具有彼此不同的蚀刻时间的蚀刻单元进行布置的步骤，以随着湿法蚀刻单元远离储存架而缩短蚀刻时间。

6．按照权利要求5所述的方法，其特征在于选择一工件的步骤包括选择一个存放在储存架中的装有多个半导体晶片的盒子的步骤。

7．一种工件传送系统，其特征在于它包括：

在多个预定处理条件下处理工件的排成直线的多个处理单元(130,132,134)，设定为随着处理单元远离储存架所述处理单元的处理时间被缩短；

一储存架(102)设置在所述处理单元的一端上以存放多个不同处理条件的工件(101)；

用于把存放在所述储存架中的工件传送到所述处理单元的传送装置(104)；以及

用于控制所述传送装置从存放在所述储存架中的工件中选择一个使用距所述储存架较远的处理单元的工件的传送控制装置(115)，并把工件传送到相应的处理单元。

8．按照权利要求7所述的系统，其特征在于所述传送控制装置首先从存放在所述储存架中的工件中选择一个使用距所述储存架最远的处理单元的工件，并把工件传送到相应的处理单元；以及

依次选择使用距所述储存架比用于最后的被传送工件的处理单元更近的处理单元的工件，并把工件传送到相应的处理单元。

9．按照权利要求7所述的系统，其特征在于传送存放在所述储存架中的工件中使用距所述储存架最近的处理单元的工件后，所述传送控制装置从存放在所述储存架中剩下的工件中选择一个使用距所述储存架最远的处理单元的工件，并把工件传送到相应的处理单元，以及

依次选择使用距所述储存架比用于最后的被传送工件的处理单元更近的处理单元的工件，并把工件传送到相应的处理单元。

10．按照权利要求7所述的系统，其特征在于当在储存架中的工件中没有使用唯一的比用于最后的被传送工件的处理单元更靠近储存架的处理单元的工件时，所述传送控制装置选择一个使用距储存架较近的处理单元的工件并把工件传送到相应的处理单元。

11．按照权利要求7所述的系统，其特征在于系统还包括：

一条件决定表(117)，在其中储存了最后的被传送工件和下一个被选择的工件之间的关系；以及

保存有关于从所述储存架中最后传送的工件的信息并每当传送一工件时更新的存储器(116)，以及

所述传送控制装置参照使用保存在所述存储器中的工件信息的条件决定表(117)来决定下一个被传送的工件。