[发明专利]制造液晶显示器件的方法无效
申请号: | 99101312.3 | 申请日: | 1999-01-13 |
公开(公告)号: | CN1234524A | 公开(公告)日: | 1999-11-10 |
发明(设计)人: | 酒井直人;松川秀树;炭田祉朗;江上典彦;广田修 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 液晶显示 器件 方法 | ||
1.一种制造LCD器件的方法,其特征在于包括以下步骤:
(a)通过给有液晶夹在其间的上衬底和下衬底中至少一个衬底的一部分加上密封材料来形成用于包裹所述液晶的密封图案;
(b)为确定单元空隙,在至少一个所述衬底上形成衬垫;
(c)通过在具有一真空水平的真空中使上衬底和下衬底对准从而所示衬底相互面对来形成所述单元空隙,所述上衬底和所述下衬底分别耦合到上平板和下平板,其中至少一个所述平板是可移动的;以及
(d)把所述衬底对相互压紧。
2.如权利要求1所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(e)形成样品密封图案,所述样品密封图案具有包裹在所述步骤(a)中形成的所述密封图案的连续密封线。
3.如权利要求1所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(e)把缓冲板置于(ⅰ)所述上平板和所述上衬底以及(ⅱ)所述下平板和所述下衬底中的至少一个之间。
4.如权利要求2所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(f)把缓冲板置于(ⅰ)所述上平板和所述上衬底以及(ⅱ)所述下平板和所述下衬底中的至少一个之间。
5.如权利要求1所述的制造LCD器件的方法,其特征在于所述步骤(c)还包括以下步骤:
(c1)由使用至少一个所述平板的真空吸盘来固定所述衬底中的一个衬底,所述至少一个所述平板设有用于抽出空气的孔和槽中的至少一个,以对真空吸盘产生比所述真空的真空水平更高的真空水平。
6.如权利要求2所述的制造LCD器件的方法,其特征在于所述步骤(c)还包括以下步骤:
(c1)由使用至少一个所述平板的真空吸盘来固定所述衬底中的一个衬底,所述至少一个所述平板设有用于抽出空气的孔和槽中的一个,以对真空吸盘产生比环境气压的真空水平更高的真空水平。
7.如权利要求3所述的制造LCD器件的方法,其特征在于所述步骤(c)还包括以下步骤:
(c1)由使用至少一个所述平板的真空吸盘来固定所述衬底中的一个衬底,所述至少一个所述平板设有用于抽出空气的孔和槽中的至少一个,以对真空吸盘产生比所述真空的真空水平更高的真空水平。
8.如权利要求4所述的制造LCD器件的方法,其特征在于所述步骤(c)还包括以下步骤:
(c1)由使用至少一个所述平板的真空吸盘来固定所述衬底中的一个衬底,所述至少一个所述平板设有用于抽出空气的孔和槽中的至少一个,以对真空吸盘产生比所述真空的真空水平更高的真空水平。
9.如权利要求1所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(e)在所述步骤(c)后把一定量的液晶滴到或加到所述衬底对中的一个衬底上,从而以所述液晶填充所述单元空隙。
10.如权利要求9所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(f)形成样品密封图案,所述样品密封图案具有包裹在所述步骤(c)中形成的所述密封图案的连续密封线。
11.如权利要求9所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(f)把包括硬质层和弹性层的两层缓冲板置于(ⅰ)所述上平板和所述上衬底以及(ⅱ)所述下平板和所述下衬底中的至少一个之间。
12.如权利要求10所述的制造LCD器件的方法,其特征在于还包括以下步骤:
(g)把包括硬质层和弹性层的两层缓冲板置于(ⅰ)所述上平板和所述上衬底以及(ⅱ)所述下平板和所述下衬底中的至少一个之间。
13.如权利要求9所述的制造LCD器件的方法,其特征在于所述步骤(c)还包括以下步骤:
(c1)由使用至少一个所述平板的真空吸盘来固定所述衬底中的一个衬底,所述至少一个所述平板设有用于抽出空气的孔和槽中的至少一个,以对真空吸盘产生比所述真空的真空水平更高的真空水平。
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