[发明专利]抛光和刨平表面用的组合物和方法无效
| 申请号： | 99101890.7 | 申请日： | 1993-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN1243857A | 公开（公告）日： | 2000-02-09 |
| 发明（设计）人： | G·布兰卡罗尼;E·W·杰森;J·V·H·罗伯特思 | 申请（专利权）人： | 罗德尔公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 表面 组合 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于工件表面抛光或刨平的研磨剂组合物，该组合物包含42.5-48.0％氧化铈，17-19％气相二氧化硅和35-39％沉淀法二氧化硅。
2.权利要求1的组合物，该组合物包含45％氧化铈，18％气相二氧化硅和37％沉淀法二氧化硅。
3.权利要求1或2的组合物，其中氧化铈的粒度是100nm-2,000nm，气相二氧化硅的粒度是10nm-1,200nm，沉淀法二氧化硅的粒度是25nm-4,000nm。
4.权利要求1或2的组合物，其中氧化铈的粒度是100nm-500nm，气相二氧化硅的粒度是7nm-40nm，沉淀法二氧化硅的粒度是50nm-2,000nm。
5.权利要求1或2的组合物，其中氧化铈的粒度是100nm-300nm，气相二氧化硅的粒度是10nm-30nm，沉淀法二氧化硅的粒度是100nm-300nm。
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