[发明专利]自动稳定化学浴的系统无效
申请号: | 99104039.2 | 申请日: | 1994-01-13 |
公开(公告)号: | CN1281909A | 公开(公告)日: | 2001-01-31 |
发明(设计)人: | W·G·科泽克;J·C·托平 | 申请(专利权)人: | 亨凯尔公司 |
主分类号: | C25D21/22 | 分类号: | C25D21/22;B01J47/02;B01J49/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 龙传红 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 稳定 化学 系统 | ||
1.一种自动稳定化学浴的系统,其中包括至少定期地从化学浴中除掉金属离子和污染物,该系统包括:
装有去离子水(DI水)的第一槽;
装有化学再生剂的第二槽;
装有化学浴的第三槽;
装有离子交换树脂的离子交换(IEX)柱,用于除去通过柱的化学浴内的金属离子污染物;
从该系统中排放掉废产物以便处理的废物出口;
由第一泵控制信号起动的第一泵装置;
由第二泵控制信号起动的第二泵装置;
与第一泵装置和IEX柱串联的第一阀门装置,它位于第三槽和废物出口之间;
与第一泵装置和IEX柱串联的第二阀门装置,由第三槽出发又回到第三槽;
与第二泵装置和IEX柱串联连接的第三阀门装置,位于第一槽和第三槽之间;
与第二泵装置和IEX柱串联连接的第四阀门装置,位于第一槽和废液出口之间,用于为DI水提供一个经IEX柱沿一个方向流动的途径;
与第二泵装置和IEX柱串联的第五阀门装置,位于第二槽和废液出口之间;和
程序编制成能提供自动工艺控制程序的控制器,该控制程序包括以下的连续操作状态:
第一操作状态,用于从IEX柱中除掉残留的DI水,并从废水口排放掉除去的DI水,该第一状态程序包括:
向第一阀门装置发出和施加操作信号以开启该阀门的装置;和
向第一泵装置发出和施加第一泵控制信号的装置,用来将预定数量的化学浴泵送到IEX柱,从中顶替走多余的DI水,并将多余的DI水从废物口排放掉;和
第二操作状态,用于将化学浴进料流过IEX柱,以便从该化学浴中除掉金属离子,第二状态程序包括:
向第二阀门装置发出和施加操作信号以开启该阀门的装置;
向第一泵送装置发出和施加第一泵控信号的装置,用以将预定数量的化学浴泵送流过IEX柱以便处理,并由此送返到第三槽。
2.权利要求1的系统,其中还包括将控制器装置的程序编制成第三操作状态,用来从IEX柱中除掉残留的化学浴并将残留的化学浴送回到第三槽中,该第三操作状态的程序包括:
用于产生和向第三阀门装置施加操作信号以开启该阀门的装置,和
用于产生和向第二泵装置施加第二泵控制信号的装置,以便将预定数量的DI水泵送到IEX柱中,顶替走残留的化学浴,驱赶后者回到第三槽。
3.权利要求2的系统,其中还包括将控制器装置的程序编制成第四操作状态,以便用DI水第一次冲洗IEX柱,并将DI水从废水出口排放掉,该第四操作状态的程序包括:
用于产生并向第四阀门装置施加操作信号以开启该阀门的装置;和
用于产生并向第二泵装置施加第二泵控制信号的装置,以便将第一份预定数量的DI水沿一个方向泵送流过IEX柱,并由此流到废水出口。
4.权利要求3的系统,其中还包括将控制器装置的程序编制成第五操作状态,用于以化学再生剂冲洗IEX柱,使IEX柱内的树脂材料再生,该第五操作状态的程序设计包括:
用于产生并向第五阀门装置施加操作信号以开启该阀门的装置;和
用于产生并向第二泵装置施加第二泵控制信号的装置,以便将预定数量的化学再生剂泵送流过IEX柱并由此流到废液出口。
5.权利要求4的系统,其中还包括将控制器装置的程序编制成第六操作状态,用于在完成第五操作状态之后用DI水对IEX柱作第二次冲洗,该第六操作状态的程序包括:
用于产生并向第四阀门装置施加操作信号以开启该阀门的装置;和
用于产生和向第二泵装置施加第二泵控制信号的装置,以便将预定数量的DI水泵送沿一个方向流过IEX柱,并由此流到废液出口。
6.权利要求5的系统,其中还包括:
与第二泵装置和IEX柱串联连接的第六阀门装置,位于第一槽和废液出口之间,用以形成DI水沿着与上述方向相反的方向流过IEX柱的流体途径,以保证从IEX柱中除掉基本上所有的外来颗粒物。
7.权利要求5的系统,其中还包括:
连接在第三槽和IEX柱之间的第一过滤装置还包括第一阀门装置和第二阀门装置,用来在化学浴进入离子交换柱之前将其过滤。
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