[发明专利]金属的表面处理方法及具有由此而得的表面的金属构件无效

专利信息
申请号: 99105761.9 申请日: 1999-04-15
公开(公告)号: CN1240239A 公开(公告)日: 2000-01-05
发明(设计)人: 川口纯;饭塚浩之 申请(专利权)人: 日本巴卡莱近估股份有限公司
主分类号: C23F1/00 分类号: C23F1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 严舫
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 金属 表面 处理 方法 具有 由此 金属构件
【权利要求书】:

1.一种金属表面处理方法,其特征在于由于金属表面上进行伴随被膜形成的化学蚀刻处理的第一步骤、及由该第一步骤对已予形成于金属表面上的被膜进行化学性去除的处理的第二步骤而成。

2.如权利要求1所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是由铁系、锌系、铝系及铜系而成的族群选出的一种金属,前述第一步骤为至少含有锌离子、镍离子、钴离子、及锰离子而成的族群选出的至少一种重金属离子及磷酸离子,且由pH为1至5的范围的水溶液,可进行伴有被膜形成的化学蚀刻处理者。

3.如权利要求1所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是由钛系、钴系及铝系而成的族群选出的一种金属,前述第一步骤为藉由至少含有氟化合物离子、磷酸及碱金属离子的酸性水溶液、可进行伴有被膜形成的化学蚀刻处理者。

4.如权利要求1所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是两性金属、前述第一步骤藉由含有由锌离子、镍离子、钴离子、钨酸离子、铬酸离子、钒酸离子及铁离子而成的族群选出的至少一种金属离子或重金属酸离子的碱性水溶液,可进行伴有被膜形成的化学蚀刻处理者。

5.如权利要求1所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是不锈钢系材料,前述第一步骤藉由含有至少草酸根离子及氟化合物离子的水溶液,可进行伴有被膜形成的化学蚀刻处理者。

6.如权利要求1所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是铜系的材料,前述第一步骤藉由至少含有铜离子及氧化剂的强碱性水溶液,可进行伴有被膜形成的化学蚀刻处理者。

7.如权利要求1至6中任何一项所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第二步骤是仅去除由前述第一步骤所形成的被膜,不侵蚀金属的表面的处理。

8.如权利要求1或2所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是铁系的材料,前述第二步骤是采用铬酸水溶液或强碱性水溶液去除被膜的处理。

9.如权利要求1、2或6所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是铜系的材料,前述第二步骤是采用硝酸去除被膜的处理。

10.如权利要求1至4任何一项所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述金属是铝系的材料,前述第二步骤是采用碳酸去除被膜的处理。

11.如权利要求1至10任何一项所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第一步骤及1或前述第二步骤是采用电解法予以进行者。

12.如权利要求1至11任何一项所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第二步骤之后,再设有于金属表面上使进行形成被膜的处理的第三步骤。

13.如权利要求1至12中任何一项所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第三步骤是采用硅烷偶合剂进行处理。

14.如权利要求12所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第三步骤是涂布型铬酸盐处理。

15.如权利要求12所述的金属表面处理方法,其特征在于,所述第三步骤是与第一步骤同样的处理。

16.一种金属构件,其特征于具有由权利要求1至11中任何一项所述的金属表面处理方法而得的表面。

17.如权利要求16所述的金属构件,其特征在于表面的Rz为1.5μm以上。

18.一种金属构件,其特征于具有由权利要求12至15中任何一项所述的金属表面处理方法而得的表面

19.一种金属构件,其特征于具有由权利要求12至15中任何一项所述的金属表面处理方法而得的表面的金属构件,在第二步骤后第三步骤前的金属的表面的Rz为1.5μm以上。

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