[发明专利]X射线成像仪无效
申请号: | 99106101.2 | 申请日: | 1999-04-26 |
公开(公告)号: | CN1234502A | 公开(公告)日: | 1999-11-10 |
发明(设计)人: | 及川四郎;足立晋;竹本隆之;山根康邦 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所;夏普株式会社 |
主分类号: | G01N23/00 | 分类号: | G01N23/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱进桂 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 | ||
1.一种使用二维射线传感器的射线成像仪器,其中包括:
用于照射试件的射线发生器;
所述二维射线传感器,其具有为了变换通过所述试件发射出的射线成为电荷信号以二维排列的检测元件,和分别连接到检测元件的开关;
连续地逐列激励连接到二维射线传感器上的所述检测元件上的开关的门激励电路;
将从二维射线传感器数据线上输出电荷加变换成电压并放大和数字化的信号阅读电路;
控制所述门激励电路和所述信号阅读电路的控制电路;
顺序控制器,其控制所述射线发生器的射线发生顺序,用各自的射线成像条件来实现监控射线成像和后续的生产射线成像;
射线成像条件计算单元,其用于计算生产性射线成像的射线成像条件和至少对顺序控制器应用此射线成像条件进行生产性射线成像,而其计算是基于监控射线成像时通过信号阅读电路从二维射线传感器收集到的电荷量与生产射线成像时所要求的电荷量之比。
2.根据权利要求1所述的仪器,其特征在于:射线成像条件计算单元可以计算照射周期以此作为所述生产性射线成像的射线成像条件。
3.根据权利要求2所述的仪器,其特征在于:所述射线成像条件计算单元将出现在感兴趣区域内的所述检测元件的电荷的积分值作为收集的电荷量考虑进行计算,所述检测元件的电荷包含在通过监控射线成像获得的二维射线传感器检测元件的电荷之中,而且射线成像条件计算单元基于在所述生产性射线成像中收集的电荷量与感兴趣区域内要求电荷量的积分值之比计算所述的照射周期。
4.根据权利要求2所述的仪器,其特征在于:所述射线成像条件计算单元将出现在感兴趣区域内的所述检测元件中具有最大值的电荷作为所述收集的电荷量考虑进行计算,所述检测元件的电荷包含在通过监控射线成像获得的二维射线传感器检测元件的电荷之中,并将在所述二维射线传感器具有线性输入/输出特性范围的最大电荷作为所要求的电荷量考虑,而且所述射线成像条件计算单元基于所述收集的电荷量与所述要求的电荷量之比计算所述照射周期。
5.根据权利要求1所述的仪器,其特征在于:所述射线成像条件计算单元将所述射线发生器的管电流作为生产性射线成像的射线成像条件进行运算。
6.根据权利要求5所述的仪器,其特征在于:所述射线成像条件计算单元将出现在感兴趣区域内的所述检测元件的电荷的积分值作为收集的电荷量考虑进行计算,所述检测元件的电荷包含在通过监控射线成像获得的二维射线传感器检测元件的电荷之中,并且所述射线成像条件计算单元基于在生产性成像时感兴趣区域内收集的电荷量与所要求电荷量的积分值之比计算射线发生器的管电流。
7.根据权利要求5所述的仪器,其特征在于:所述射线成像条件计算单元将出现在感兴趣区域内的所述检测元件中具有最大值的电荷作为所述收集的电荷量考虑进行计算,所述检测元件的电荷包含在通过监控射线成像获得的二维射线传感器检测元件的电荷之中,并将在所述二维射线传感器具有线性输入/输出特性范围的最大电荷作为所要求的电荷量考虑,而且所述射线成像条件计算单元基于所述收集的电荷量与所述要求的电荷量之比计算所述照射周期。
8.根据权利要求1所述的仪器,其特征在于:所述顺序控制器可操作以建立监控射线成像的X射线的剂量,且最多为所述生产性射线成像X射线剂量的百分之十。
9.根据权利要求1所述的仪器,其特征在于:在电荷从二维射线传感器的检测元件阅读之后和生产性射线成像开始之前,所述控制电路可运作以使所述门激励电路施加一个复位信号给所述二维射线传感器。
10.根据权利要求1所述的仪器,其特征在于:所述顺序控制器可运作以控制所述射线发生顺序,为所述监控射线成像发射X射线,然后停止发射X射线,其后为所述生产性射线成像发射X射线;
控制电路可运作以控制所述门激励电路和所述信号阅读电路,以便在所述监控射线成像之后和生产性射线成像之前的无X射线发射期间,从二维射线传感器上阅读电荷。
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