[发明专利]从真空室或者从气体中除去水的方法

权利要求书

1.一种从真空室或者从气体中除去水的方法，该方法包括如下步骤：

—在70～200℃范围内的温度下，通过在于气流下或低于500mbar

的压力下的反应室内操作，由硼酸分解产生氧化硼；以及

—用这样获得的氧化硼作为水吸附剂，将其在0～80℃范围内的温度下与必须从中除去水的真空容积接触，或在0～120℃范围内的温度下与必须从中除去水的气体接触。

2.权利要求1的方法，其中硼酸分解是在干气流下进行的。

3.权利要求2的方法，其中所述干气流流速高于5×C cm³/min，其中的C是测定的以cm³表示的反应室容积。

4.权利要求2的方法，其中所述气体是氮气。

5.权利要求1的方法，其中硼酸的分解是通过将硼酸以厚度不高于1cm的床的形式铺于反应室内而进行的。

6.权利要求1的方法，其中硼酸的分解是通过将硼酸置于气体渗透性的、但能阻挡粉末的容器内而进行的。

7.权利要求1的方法，其中水是从选自下组的卤素或卤化气体物流中除去的：氯、氟化氢、氯化氢、溴化氢、四氯化硅、三氯硅烷和二氯硅烷及其混合物。

8.权利要求1的方法，其中从含有受控惰性气体气氛的、光学放大器的密封室除去水。

9.权利要求1的方法，其中通过使气流流过净化器而从所述气流除去水。

10.进行权利要求8的方法的光学放大器，它包括一个密封室，该密封室内含激光源和受控的惰性气体气氛，该光学放大器的特征在于，它包含铺在容器内的氧化硼，该容器具有气体渗透性的但能阻挡粉末的表面。

11.进行权利要求9的方法的气体净化器，其特征在于，它包括含于容器内的氧化硼，该容器在相对的两端有开口，在所述开口装有用于气体管线的部件和多孔隔板。